講演名 2007-06-15
コレクタ層内にSiO_2細線を埋め込んだHBTのDC特性(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)
高橋 新之助, 三浦 司, 山下 浩明, 宮本 恭幸, 古屋 一仁,
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抄録(和) HBTのInPコレクタ層内に低誘電率絶縁体のSiO_2を埋め込んだ素子ではベースコレクタ間容量が低減され、トランジスタの高速動作が期待できる。等価回路解析によると、200nmのSiO_2細線を埋め込むことにより最大発振周波数が2倍程度向上する。幅310nm,厚さ200nmのSiO_2細線をInPサブコレクタとコレクタで埋め込むことに我々は成功したが、SiO_2細線を埋め込むことによるMOVPEでの結晶成長への影響及びエミッタ直下のSiO_2細線によるリークや電流増幅抑制等によるデバイスの劣化が懸念される。そこで、実際にSiO_2細線を埋め込んだ素子を作製し、直流により特性を評価した。エミッタ接地特性においてはSiO_2細線を埋め込んでいない素子とほとんど差がない特性が得られた。
抄録(英) The HBT with buried SiO_2 in InP collector has low Base-Collector Capacitance(C_). Therefore this HBT is expected high speed operation. In equivalent circuit analysis, HBT with buried SiO_2 wires of thickness 200nm in collector exhibit two times increase in f_. SiO_2 wires of width 310nm and thickness 200nm were buried in InP Sub-collector and collector. To observe influence on epitaxial crystal growth by insertion of SiO_2 wires through leak current and current gain in HBT, HBT with buried SiO_2 wires in collector was fabricated and evaluated by DC characteristics. This HBT exhibited the almost same characteristics compared with conventional HBT.
キーワード(和) HBT / MOVPE / 再成長 / InP / ベースコレクタ間容量 / SiO_2細線
キーワード(英) HBT / MOVPE / regrowth / InP / Base-Collector capacitance / SiO_2 wires
資料番号 ED2007-37
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2007/6/8(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) コレクタ層内にSiO_2細線を埋め込んだHBTのDC特性(化合物半導体プロセス・デバイス・一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) DC characteristics of HBT with buried SiO_2 wires in collector
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) HBT / HBT
キーワード(2)(和/英) MOVPE / MOVPE
キーワード(3)(和/英) 再成長 / regrowth
キーワード(4)(和/英) InP / InP
キーワード(5)(和/英) ベースコレクタ間容量 / Base-Collector capacitance
キーワード(6)(和/英) SiO_2細線 / SiO_2 wires
第 1 著者 氏名(和/英) 高橋 新之助 / Shinnosuke TAKAHASHI
第 1 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院理工学研究科
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 三浦 司 / Tsukasa MIURA
第 2 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院理工学研究科
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 山下 浩明 / Hiroaki YAMASHITA
第 3 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院理工学研究科
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 宮本 恭幸 / Yasuyuki MIYAMOTO
第 4 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院理工学研究科:科学技術振興機構CREST
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology:CREST, Japan Science and Technology Corporation
第 5 著者 氏名(和/英) 古屋 一仁 / Kazuhito FURUYA
第 5 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院理工学研究科:科学技術振興機構CREST
Department of Physical Electronics, Tokyo Institute of Technology:CREST, Japan Science and Technology Corporation
発表年月日 2007-06-15
資料番号 ED2007-37
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 95
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日