講演名 2007/5/17
Electrochemial deposition of InS_x thin film by periodic pulse-form biasing and its characterization
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抄録(和)
抄録(英) In this study, indium sulfide oxide (InS_xO_y) was deposited onto ITO coated glass substrate by electrochemical deposition (ECD) from an aqueous solution. InS_xO_y is suitable as a window layer in solar cells. The deposition bath contained In_2(SO_4)_3 and Na_2S_2O_3. We first optimized the pulse-form biasing for ECD by characterizing deposited samples with scanning electron microscope (SEM), Auger electron spectroscopy (AES) and optical transmission measurements. Furthermore, we observed the photosensitivity of the films by means of photoelectrochemical (PEC) measurements. From these results, we confirmed that the indium sulfide thin films show n-type conduction. We also found that the optical band gap is varied significantly by changing the deposition pulse form.
キーワード(和)
キーワード(英) Electrochemical deposition / Indium sulfide / Pulse-form biasing / Aqueous bath / Solar cells
資料番号 ED2007-25,CPM2007-24,SDM2007-25
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2007/5/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Electrochemial deposition of InS_x thin film by periodic pulse-form biasing and its characterization
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Electrochemical deposition
第 1 著者 氏名(和/英) / A.M.Abdel Haleem
第 1 著者 所属(和/英)
Department of Engineering Physics, Electronics and Mechanics, Nagoya Institute of Technology:(Present Office)Dept. Engineering Physics, Faculty of Engineering, Fayoum University
発表年月日 2007/5/17
資料番号 ED2007-25,CPM2007-24,SDM2007-25
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 56
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日