講演名 2007-04-13
A 65 nm Embedded SRAM with Wafer Level Burn-In Mode, Leak-Bit Redundancy and E-trim Fuse for Known Good Die
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抄録(和)
抄録(英) We propose a wafer level burn-in (WLBI) mode, a leak-bit redundancy and a small, highly reliable Cu E-trim fuse repair scheme for an embedded 6T-SRAM to achieve a KGD-SoC. We febricated a 16M-SRAM with these techniques using 65 nm LSTP technology, and confirmed its efficient operation. The WLBI mode has almost no area penalyy and a speed penalty of only 50 ps. The leak-bit redundancy area penalty is less than 2%.
キーワード(和)
キーワード(英) 6T-SRAM / 65nm CMOS technology / Known Good Die / Embedded SRAM
資料番号 ICD2007-11
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2007/4/5(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) A 65 nm Embedded SRAM with Wafer Level Burn-In Mode, Leak-Bit Redundancy and E-trim Fuse for Known Good Die
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / 6T-SRAM
第 1 著者 氏名(和/英) / Shigeki Ohbayashi
第 1 著者 所属(和/英)
Renesas Technology Corporation
発表年月日 2007-04-13
資料番号 ICD2007-11
巻番号(vol) vol.107
号番号(no) 1
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日