講演名 | 2007-03-16 遺伝的アルゴリズムを用いたOPEパラメータの最適化 石田 剛, 村中 徳明, 原崎 克彦, 徳丸 正孝, |
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抄録(和) | 現在LSIの微細化により回路パターンが複雑化し,LSI設計者の負担が増している.LSI設計者の負担を軽減するために,TCAD (Technology Computer Aided Design)の技術が近年目覚しく発達している.しかし,TCADの機能を充分な精度で使用するためには,事前にパラメータフィッティング(以下フィッティング)の処理が必要になる.パラメータフィッティングは計測データに,未決定の係数(以下パラメータ)を含むモデル関数が一致するように,未決定のパラメータのベクトルを決定する処理である.本研究では,リソグラフィプロセスで注目を浴びている光近接効果補正技術におけるフィッティングの処理に,効果が見込まれる遺伝的アルゴリズム(Genetic Algorithm:以下GA)の適用を提案し,GAによるOPEパラメータの最適化を実行したので,その結果と検討について報告する. |
抄録(英) | |
キーワード(和) | 遺伝的アルゴリズム / 光近接効果 / 光近接効果補正 / パラメータフィティング |
キーワード(英) | |
資料番号 | NC2006-199 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | NC |
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開催期間 | 2007/3/9(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Neurocomputing (NC) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 遺伝的アルゴリズムを用いたOPEパラメータの最適化 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | OPE parameter fitting with Genetic Algorithm |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 遺伝的アルゴリズム |
キーワード(2)(和/英) | 光近接効果 |
キーワード(3)(和/英) | 光近接効果補正 |
キーワード(4)(和/英) | パラメータフィティング |
第 1 著者 氏名(和/英) | 石田 剛 |
第 1 著者 所属(和/英) | 関西大学工学部 |
第 2 著者 氏名(和/英) | 村中 徳明 |
第 2 著者 所属(和/英) | 関西大学工学部 |
第 3 著者 氏名(和/英) | 原崎 克彦 |
第 3 著者 所属(和/英) | 関西大学工学部 |
第 4 著者 氏名(和/英) | 徳丸 正孝 |
第 4 著者 所属(和/英) | 関西大学工学部 |
発表年月日 | 2007-03-16 |
資料番号 | NC2006-199 |
巻番号(vol) | vol.106 |
号番号(no) | 590 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |