講演名 2007-03-08
ビアプログラマブルロジックVPEXを用いた固定秘密鍵埋め込み型RSA暗号回路の設計(再構成可能デバイス/キャリブレーション,システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
下村 弘, 奥山 一樹, 中村 明博, 藤野 毅,
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抄録(和) 当研究室では,LSIの製造工程中において,ビア2層(VIA1およびVIA3)のレイアウトを変更することにより,FPGAと同様に論理回路を変更できるビアプログラマブルロジック回路のアーキテクチャVPEX(Via Programmable Logic using EXOR Array)の研究をおこなってきた.本VPEXアーキテクチャと,フォトマスクを使用しないでもパターンを形成できる電子ビームウエハ直接描画技術(EB直描)を組み合わせることにより,1つ1つ回路論理が異なるLSI,すなわち「ユニークLSI」を製造することが可能となる.本論分ではこのようなVPEX技術を使用した「ユニークLSI」の応用用途の一例として,個人認証用LSIを実現するための技術検討を行った結果を紹介する.前半では,ビアプログラマブルロジックVPEXの詳細アーキテクチャを紹介し,後半では,個人認証用LSIを実現するために必要な,暗号鍵を埋め込むことを考慮したRSA暗号回路の検討結果について報告する.
抄録(英) We have been studied the Via Programmable Logic Architecture VPEX (Via Programmable Logic using EXOR array). As similar to FPGA, variable logic circuit can be programmed in VPEX by changing mask layout of VIA1 and VIA3. The "Unique LSI", whose logic circuit is different each other, can be manufactured by using VPEX architecture and EB direct writing technique. In this paper, the LSI architecture for parsonal identification is examined as the sample application of the "Unique LSI". The detail of VPEX architecture is explained in the first half, and the circuit design of RSA Encryption circuit with embedded private key is studied in the second half.
キーワード(和) プログラマブルロジック / 電子ビーム描画 / 公開鍵暗号基盤(PKI) / RSA暗号
キーワード(英) Programmable Logic / EB direct writing / Public Key Infrastructure / RSA Cryptography
資料番号 VLD2006-136,ICD2006-227
発行日

研究会情報
研究会 VLD
開催期間 2007/3/1(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 VLSI Design Technologies (VLD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) ビアプログラマブルロジックVPEXを用いた固定秘密鍵埋め込み型RSA暗号回路の設計(再構成可能デバイス/キャリブレーション,システムオンシリコン設計技術並びにこれを活用したVLSI)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Design of RSA Encryption circuit with embedded Fixed Private Key using Via Programmable Logic VPEX
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) プログラマブルロジック / Programmable Logic
キーワード(2)(和/英) 電子ビーム描画 / EB direct writing
キーワード(3)(和/英) 公開鍵暗号基盤(PKI) / Public Key Infrastructure
キーワード(4)(和/英) RSA暗号 / RSA Cryptography
第 1 著者 氏名(和/英) 下村 弘 / Hiroshi Shimomura
第 1 著者 所属(和/英) 立命館大学大学院理工学研究科
Graduate school of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 2 著者 氏名(和/英) 奥山 一樹 / Kazuki Okuyama
第 2 著者 所属(和/英) 立命館大学理工学部
Faculty of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 3 著者 氏名(和/英) 中村 明博 / Akihiro Nakamura
第 3 著者 所属(和/英) 立命館大学大学院理工学研究科
Graduate school of Science and Engineering, Ritsumeikan University
第 4 著者 氏名(和/英) 藤野 毅 / Takeshi Fujino
第 4 著者 所属(和/英) 立命館大学大学院理工学研究科 ; 立命館大学理工学部
Graduate school of Science and Engineering, Ritsumeikan University ; Faculty of Science and Engineering, Ritsumeikan University
発表年月日 2007-03-08
資料番号 VLD2006-136,ICD2006-227
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 548
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日