講演名 2007-01-18
FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 : ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
飯田 幸雄, 中尾 公一, 大村 泰久, 田村 進,
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抄録(和) 本報告は,FDTD電磁界シミュレーションを駆使して行う電磁波材料の簡易測定法を検討している.はじめに,矩形空洞共振器を用いた誘電体測定結果を示し,材料形状に対する制約の問題を検討している.次に,NRDガイド共振器を用いた金属表皮抵抗の測定法を提案している.続いて,誘電体板と半導体ウェハの測定法を検討している.
抄録(英) The measurement method of the electromagnetic wave material supported by the FDTD electromagnetic field simulation technique is studied. First of all, a result of the dielectric measurement using the rectangular cavity resonator is shown, and the problem of the restriction to the material configuration is examined. Next, a measurement method of the metal surface resistance using a NRD guide resonator is proposed. Finally, the measurement method for the semiconductor wafers and dielectric plates is studied.
キーワード(和) マイクロ波・ミリ波 / 電磁波材料 / 材料測定法 / 誘電体測定 / 半導体ウェハ / 導体表皮抵抗
キーワード(英) Micro- and millimeter-wave / Measurement method / Electromagnetic-wave-materials / Dielectric substrate / Semiconductor wafer / Conductor surface resistance
資料番号 ED2006-221,MW2006-174
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2007/1/10(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) FDTDシミュレーション技術を用いた材料測定法に関する検討 : ミリ波帯金属表皮抵抗と半導体ウェハを含む誘電体板の測定(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) A Study on Material Measurement Methods Using FDTD Simulation Techniques : Measurements of Surface Resistance of Metals and Dielectric Plates Including Semiconductor Wafer in Millimeter-wave Range
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) マイクロ波・ミリ波 / Micro- and millimeter-wave
キーワード(2)(和/英) 電磁波材料 / Measurement method
キーワード(3)(和/英) 材料測定法 / Electromagnetic-wave-materials
キーワード(4)(和/英) 誘電体測定 / Dielectric substrate
キーワード(5)(和/英) 半導体ウェハ / Semiconductor wafer
キーワード(6)(和/英) 導体表皮抵抗 / Conductor surface resistance
第 1 著者 氏名(和/英) 飯田 幸雄 / Yukio IIDA
第 1 著者 所属(和/英) 関西大学ORDIST・工学部
ORDIST, Faculty of Engineering, Kansai University
第 2 著者 氏名(和/英) 中尾 公一 / Koichi NAKAO
第 2 著者 所属(和/英) 関西大学工学部
Faculty of Engineering, Kansai University
第 3 著者 氏名(和/英) 大村 泰久 / Yasuhisa OMURA
第 3 著者 所属(和/英) 関西大学ORDIST・工学部
ORDIST, Faculty of Engineering, Kansai University
第 4 著者 氏名(和/英) 田村 進 / Susumu TAMURA
第 4 著者 所属(和/英) 関西大学ORDIST・工学部
ORDIST, Faculty of Engineering, Kansai University
発表年月日 2007-01-18
資料番号 ED2006-221,MW2006-174
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 459
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日