講演名 2007/1/18
Xe_2分子線励起用SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>緑色蛍光体の作製と評価(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
山根 明, 國本 崇, 中島 康裕, 大観 光徳, 小林 洋志,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) Xe_2分子線励起用のPDP用緑色蛍光体としてSrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>を作製し、発光特性の評価を行った。SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>は、焼成温度1200℃でTb添加濃度15mol%のとき発光強度が最大となり、172nm励起での発光ピーク強度はZn_2SiO_4:Mn^<2+>の約125%を示した。また、SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>はプロセス劣化試験における発光強度の低下は見られず、プラズマ照射後では172nm励起においてZn_2SiO_4:Mn^<2+>の約110%を示した。
抄録(英) Luminescent properties of SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> have been investigated as a green PDF phosphor for Xe_2 excimer band excitation. The photoluminescence(PL) intensity of SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> under 172nm excitation reaches the maximum at the Tb content of 15 molar% for the sample fired at 1200℃, and the peak intensity is about 125% compared to that of Zn_2SiO_4:Mn^<2+>. The PL intensity of the SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> phosphor is not decreased by baking at 600℃ with ethylcellulose, and the peak intensity is about 110% compared to that of Zn_2SiO_4:Mn^<2+> after plasma irradiation.
キーワード(和) PDP用緑色蛍光体 / SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> / Xe_2分子線励起
キーワード(英) Green PDP phosphor / SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> / Xe_2 excimer band excitation
資料番号 EID2006-51
発行日

研究会情報
研究会 EID
開催期間 2007/1/18(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electronic Information Displays (EID)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Xe_2分子線励起用SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>緑色蛍光体の作製と評価(ディスプレイに関する技術全般:LCD(バックライトを含む),PDP,有機/無機EL,CRT,FED,VFD,LEDなどのディスプレイに関するデバイス,部品,材料及び応用技術,発光・非発光型ディスプレイ合同研究会)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Preparation and characterization of SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> green phosphors for Xe_2 excimer band excitation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) PDP用緑色蛍光体 / Green PDP phosphor
キーワード(2)(和/英) SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+> / SrGd_4Si_3O_<13>:Tb^<3+>
キーワード(3)(和/英) Xe_2分子線励起 / Xe_2 excimer band excitation
第 1 著者 氏名(和/英) 山根 明 / Akira Yamane
第 1 著者 所属(和/英) 鳥取大学 工学部 電気電子工学科
Dept. of Electrical and Electronic Eng., Tottori Univ.
第 2 著者 氏名(和/英) 國本 崇 / Takashi Kunimoto
第 2 著者 所属(和/英) 徳島文理大学 工学部 ナノ物質工学科
Tokushima Bunri Univ.
第 3 著者 氏名(和/英) 中島 康裕 / Yasuhiro Nakashima
第 3 著者 所属(和/英) 鳥取大学 工学部 電気電子工学科
Dept. of Electrical and Electronic Eng., Tottori Univ.
第 4 著者 氏名(和/英) 大観 光徳 / Koutoku Ohmi
第 4 著者 所属(和/英) 鳥取大学 工学部 電気電子工学科
Dept. of Electrical and Electronic Eng., Tottori Univ.
第 5 著者 氏名(和/英) 小林 洋志 / Hiroshi Kobayashi
第 5 著者 所属(和/英) 徳島文理大学 工学部 ナノ物質工学科
Tokushima Bunri Univ.
発表年月日 2007/1/18
資料番号 EID2006-51
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 499
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日