| 講演名 | 2007-01-29 ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) 高橋 秀知, 西谷 麻希, 早崎 芳夫, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | ホログラフィック2光子造形法は,空間光変調素子上に表示した計算機ホログラムによりフェムト秒レーザーパルスを空間的に分割して,光感光性材料内部に照射し,高スループットで3次元構造を形成する手法である.計算機ホログラムによって形成されるパターンは,空間光変調素子により切替え表示されるため,任意のマイクロ構造を高速に作製可能である.本報告では,フォトレジストを用いて,ホログラフィックな並列照射と自動ステージによる材料の移動を組み合わせることにより,光導波路のような線状構造や3次元構造の作製について述べる. |
| 抄録(英) | Holographic two-photon micro fabrication method performs high-speed parallel processing inside photoresist using a computer-generated hologram displayed on the liquid crystal spatial light modulator. Switching of the computer-generated hologram performs arbitrary and variable parallel processing. We demonstrate the micro fabrication with a linear structure and a three-dimensional fabrication using a combination the holographic parallel irradiation with the lateral translation of sample stage. |
| キーワード(和) | 空間光変調素子 / フェムト秒パルスレーザー / 計算機ホログラム / フォトレジスト |
| キーワード(英) | Liquid crystal spatial light modulator / Femtosecond pulse laser / Computer-generated hologram / Photoresist |
| 資料番号 | PN2006-50,OPE2006-132,LQE2006-121 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | PN |
|---|---|
| 開催期間 | 2007/1/22(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Photonic Network (PN) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ホログラフィック2光子造形法によるフォトレジストを用いた3次元構造の作製(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,光集積回路,光導波路素子,光スイッチング,導波路解析,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Three-dimensional fabrication of photoresist using holographic two-photon microfabrication |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 空間光変調素子 / Liquid crystal spatial light modulator |
| キーワード(2)（和/英） | フェムト秒パルスレーザー / Femtosecond pulse laser |
| キーワード(3)（和/英） | 計算機ホログラム / Computer-generated hologram |
| キーワード(4)（和/英） | フォトレジスト / Photoresist |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 高橋 秀知 / Hidetomo TAKAHASHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 西谷 麻希 / Maki NISHITANI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 早崎 芳夫 / Yoshio HAYASAKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 徳島大学工学部光応用工学科 Department of Optical Science and Technology, Faculty of Engineering, The University of Tokushima |
| 発表年月日 | 2007-01-29 |
| 資料番号 | PN2006-50,OPE2006-132,LQE2006-121 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 513 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |