| 講演名 | 2006-11-21 電波暗室における高周波シールド特性評価法に関する研究 : 無線LAN帯に対応したシールド材の開発と評価(ミリ波技術,一般) 上野 大介, 戸枝 保, 能戸 崇行, 匂坂 剛, 宗形 隆史, 林 兼芳, 橋本 修, |
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| 抄録(和) | 実験室内でMIL-STD285に準拠した電磁波シールド測定を実現するためには,試料を取り付けられる測定専用のシールド壁面などの特殊な設備が必要である.本研究では,電波暗室を利用し,シールド材を透過した電磁波のみをタイムゲート処理で抽出することにより,遠方界における電磁波シールド材の測定を実現した.また,測定条件を検討することにより,ジグ内部反射,偏波による回り込みなどの影響を低減できた.その結果,1～6GHzで70dB程度の遮蔽率がある電磁波シールド材を測定可能な装置を開発し,50dBの電磁波遮蔽能力がある電磁波シールド材を開発した. |
| 抄録(英) | In this study, I used an electric wave darkroom by extracting only the electromagnetic wave which transmitted in shield materials by thyme gate processing and realized the measurement of electromagnetic shielding material in distant place world. In addition, I was able to reduce influence such as jig inside reflection, circumference including everything by a polarized wave by examining a measurement condition. |
| キーワード(和) | 電波暗室 / 電磁波シールド材 / タイムドメイン法 / MIL-STD285 / KEC法 |
| キーワード(英) | Electric wave darkroom / Electromagnetic shielding material / MIL-STD285 / KEC method |
| 資料番号 | MW2006-135 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MW |
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| 開催期間 | 2006/11/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Microwaves (MW) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 電波暗室における高周波シールド特性評価法に関する研究 : 無線LAN帯に対応したシールド材の開発と評価(ミリ波技術,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Shield Characteristic Evaluation Method in the Anechoic Chamber : Development and evaluation of shield materials corresponding to wireless LAN zone |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電波暗室 / Electric wave darkroom |
| キーワード(2)（和/英） | 電磁波シールド材 / Electromagnetic shielding material |
| キーワード(3)（和/英） | タイムドメイン法 / MIL-STD285 |
| キーワード(4)（和/英） | MIL-STD285 / KEC method |
| キーワード(5)（和/英） | KEC法 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 上野 大介 / Daisuke UENO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 埼玉県産業技術総合センター Saitama industrial technical general center |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 戸枝 保 / Tamotsu TOEDA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 埼玉県産業技術総合センター Saitama industrial technical general center |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 能戸 崇行 / Takayuki NOTO |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 埼玉県産業技術総合センター Saitama industrial technical general center |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 匂坂 剛 / Takeshi SAGISAKA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 埼玉県産業技術総合センター Saitama industrial technical general center |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 宗形 隆史 / Takashi MUNAKATA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 埼玉県産業技術総合センター Saitama industrial technical general center |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 林 兼芳 / Kaneyoshi HAYASHIO |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 株式会社サンケイ技研 R&D Division, Osaka Corporation |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 橋本 修 / Osamu HASHIMOTO |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 青山学院大学 Aoyamagakuin University |
| 発表年月日 | 2006-11-21 |
| 資料番号 | MW2006-135 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 369 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |