講演名 2006/11/2
Crystal Structure of Epitaxial Co Thin Film Grown on Al_2O_3(0001) Substrate(Head materials & recording media,The 8th Asian Symposium on Information Storage Technology (ASIST-8))
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抄録(和)
抄録(英) The effects of substrate temperature and buffer layer material on the crystal structure of Co thin film epitaxially grown on Al_2O_3(0001) substrate were investigated. The substrate temperature was varied in a range between 30℃ and 400℃. Co films grown directly on Al_2O_3(0001) substrates consist of a mixture of fcc and hcp phases with stacking faults. An fcc-Co single crystal film was obtained when a Cu buffer layer was introduced, while on an Au buffer layer an hcp-Co single crystal film grew at a substrate temperature of 300℃.
キーワード(和)
キーワード(英) Co thin film / crystal structure / epitaxial growth / buffer layer / Al_2O_3(0001) substrate
資料番号 MR2006-40
発行日

研究会情報
研究会 MR
開催期間 2006/11/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Magnetic Recording (MR)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Crystal Structure of Epitaxial Co Thin Film Grown on Al_2O_3(0001) Substrate(Head materials & recording media,The 8th Asian Symposium on Information Storage Technology (ASIST-8))
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Co thin film
第 1 著者 氏名(和/英) / Mitsuru OHTAKE
第 1 著者 所属(和/英)
Faculty of Science and Engineering, Chuo University
発表年月日 2006/11/2
資料番号 MR2006-40
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 335
ページ範囲 pp.-
ページ数 2
発行日