| 講演名 | 2006-11-10 酸素イオンのスパッタ照射による酸化物薄膜の作製装置(薄膜プロセス・材料,一般) 千葉 忍, 佐々木 公洋, 元木 詮, 畑 朋延, 伊藤 昭彦, |
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| 抄録(和) | 酸素イオンのスパッタ照射によって、酸化物薄膜を作製する装置を開発した。本装置は金属の極薄膜を堆積する金属成膜エリアと、その金属膜を酸化させる酸化エリアに分けることにより酸化物薄膜を高速堆積する装置である。本装置はカルーセル式の大型装置で、この装置の成膜有効範囲において酸化物薄膜の膜厚分布と屈折率分布の最適化を行い、SiO_2でそれぞれ±1.05%、±0.29%で、均一な酸化物薄膜を得ることができた。 |
| 抄録(英) | We have developed the practical system to produce oxide films by oxygen ion implantation. This system is deposited oxide films at high rate by dividing into two regions; metal sputtering region and oxidization region. This is the large-sized system of the carousel type, and oxide films were deposited uniformly in effective deposition area by optimization of the film thickness distribution and the refractive index distribution. The distribution of refractive index and film thickness were shown to be ±1.05% and ±1.47%, respectively. |
| キーワード(和) | 酸素イオンスパッタ照射 / 酸化物薄膜 / 高速堆積 / 膜厚分布 |
| キーワード(英) | oxygen ion implantation / oxide films / high rate deposition / film thickness distribution |
| 資料番号 | CPM2006-127 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2006/11/2(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 酸素イオンのスパッタ照射による酸化物薄膜の作製装置(薄膜プロセス・材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | The practical sputtering system for oxide films by oxygen ion implantation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 酸素イオンスパッタ照射 / oxygen ion implantation |
| キーワード(2)（和/英） | 酸化物薄膜 / oxide films |
| キーワード(3)（和/英） | 高速堆積 / high rate deposition |
| キーワード(4)（和/英） | 膜厚分布 / film thickness distribution |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 千葉 忍 / Shinobu CHIBA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 金沢大学大学院 自然科学研究科:CBC株式会社 Graduate School of Natural & Technology Kanazawa University:CBC Co., Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 佐々木 公洋 / Kimihiro SASAKI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 金沢大学大学院 自然科学研究科 Graduate School of Natural & Technology Kanazawa University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 元木 詮 / Akira MOTOKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | CBC株式会社 CBC Co., Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 畑 朋延 / Tomonobu HATA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 独立行政法人科学技術振興機構 研究成果活用プラザ石川 JST Innovation Plaza Ishikawa |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 伊藤 昭彦 / Akihiko ITO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 芝浦メカトロニクス株式会社 SHIBAURA MECHATRONICS Co., Ltd. |
| 発表年月日 | 2006-11-10 |
| 資料番号 | CPM2006-127 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 336 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |