| 講演名 | 2006/9/28 PtSiの混晶化による仕事関数変調 大見 俊一郎, 澤熊 悠, 大熊 直樹, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | Ti、W、Hfとの混晶化によるPtSiの仕事関数変調に関する検討を行った。Pt/(Ti, W, Hf)/n-Si (100)積層構造を形成後に、窒素中600-850℃のアニールを行うことにより、Pt (Ti, W, Hf) Siの混晶シリサイドを形成した。まず、(Pt, Ti) Siの場合、PtSiのn-Siへの障壁高さ(0.85eV)と比較して、0.1eVの障壁高さの低減が可能であることが分かった。しかし、合金散乱によりシート抵抗の増大が顕著となることが分かった。次に、(Pt, W) Siの場合、十分なシリサイド化を行うことにより相分離し、界面付近にPtSiが形成されPtSiの仕事関数と同様の結果が得られることが分かった。最後に、(Pt, Hf) Siの場合、Hf組成を25%に増加させることにより若干シート抵抗が増大するものの、0.06eV程度障壁高さを低減できることが分かった。 |
| 抄録(英) | Work function modulation of PtSi by alloying with refractory metals, such as Ti, W and Hf, was investigated. After Pt/(Ti, W, Hf)/n-Si (100) stacked layers formations, Pt (Ti, W, Hf) Si silicidation was carried out by 600-850℃ annealing in N_2 ambient. In case of (Pt, Ti) Si, sheet resistance increased remarkably although a 0.1eV reduction of barrier height for electron was observed. In case of (Pt, W) Si, phase separation to PtSi and WSi_2 seemed to occur, and its barrier height was found to be same with that of PtSi probably because PtSi is dominant phase at silicide/n-Si interface. Finally, in case of (Pt, Hf) Si, 0.06eV reduction of barrier height was observed without significant increase of sheet resistance when Hf concentration was approximately 25%. |
| キーワード(和) | PtSi / モノシリサイド / 混晶 / 仕事関数 / シート抵抗 |
| キーワード(英) | PtSi / mono-silicide / alloy / work function / sheet resistance |
| 資料番号 | SDM2006-178 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
|---|---|
| 開催期間 | 2006/9/28(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | PtSiの混晶化による仕事関数変調 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Work Function Modulation of PtSi Alloying with Refractory Metals |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | PtSi / PtSi |
| キーワード(2)（和/英） | モノシリサイド / mono-silicide |
| キーワード(3)（和/英） | 混晶 / alloy |
| キーワード(4)（和/英） | 仕事関数 / work function |
| キーワード(5)（和/英） | シート抵抗 / sheet resistance |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 大見 俊一郎 / Shun-ichiro OHMI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物理電子システム創造専攻 Dept. of Electronics and Applied Physics, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 澤熊 悠 / Yu SAWAKUMA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物理電子システム創造専攻 Dept. of Electronics and Applied Physics, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 大熊 直樹 / Naoki OHKUMA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学 大学院総合理工学研究科 物理電子システム創造専攻 Dept. of Electronics and Applied Physics, Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 発表年月日 | 2006/9/28 |
| 資料番号 | SDM2006-178 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 277 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |