| 講演名 | 2006-10-06 SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス) 山口 哲生, 石田 芳樹, 陳 晨, 萩原 正宜, 林部 林平, 山上 朋彦, 阿部 克也, 上村 喜一, |
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| 抄録(和) | 熱窒化法とプラズマ窒化法によりSiC表面を直接窒化し,形成された窒化層をXPSを用いて評価した.窒化開始から数分で窒化層の成長が飽和し,極めて薄い層が形成された.窒化層からSi,C,O,Nのピークが検出された.これらのピークを分析した結果,窒化層は主にSiの酸窒化膜で構成されていることが示された. |
| 抄録(英) | Nitride layers were formed on SiC surface by thermal nitridation or plasma nitridation. The surface was characterized by using XPS. The thickness of the nitride layer increased with increasing nitridation time, and then saturated in several minutes. Extremely thin layer was detected at the SiC surface after the nitridation. The peaks from Si, C, O and N were detected at the SiC surface by XPS measurements. These peaks indicated that the surface layer was consisted of mainly SiON. |
| キーワード(和) | SiC / 窒化 / MIS / SiN |
| キーワード(英) | SiC / Nitridation / Nitride / MIS / SiN |
| 資料番号 | ED2006-173,CPM2006-110,LQE2006-77 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2006/9/28(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | SiC表面の直接窒化とXPSによる窒化層の評価(窒化物及び混晶半導体デバイス) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Nitridation of SiC Surface and Characterization by using XPS |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | SiC / SiC |
| キーワード(2)（和/英） | 窒化 / Nitridation |
| キーワード(3)（和/英） | MIS / Nitride |
| キーワード(4)（和/英） | SiN / MIS |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山口 哲生 / Tetsuo YAMAGUCHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石田 芳樹 / Yoshiki ISHIDA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 陳 晨 / Chen CHEN |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 萩原 正宜 / Masataka HAGIHARA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 林部 林平 / Rinpei HAYASHIBE |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 山上 朋彦 / Tomohiko YAMAKAMI |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 阿部 克也 / Katsuya ABE |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 上村 喜一 / Kiichi KAMIMURA |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 信州大学工学部 Faculty of Engineering, Shinshu University |
| 発表年月日 | 2006-10-06 |
| 資料番号 | ED2006-173,CPM2006-110,LQE2006-77 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 270 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |