| 講演名 | 2006-09-08 特徴空間の再帰的分割に基づく半導体欠陥検査手法(テーマ関連セッション,事例ベースメディア解析) 酒井 薫, 前田 俊二, |
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| 抄録(和) | 半導体ウェーハパターンを対象とした欠陥検査では,ウェーハ上に同一となるように形成された繰返しパターンの画像を比較し,不一致を欠陥として検出する.検査対象は薄膜多層パターンであり,比較画像間において,製造プロセスに起因する明るさの違いが生じている.我々は,正常部の不一致を許容するため,特徴空間の分割に基づく実物同士の比較手法を提案する.この手法は,回帰木と同様な手順を有する.ここでは,パターンやノイズの特性を表わす特徴を逐次選択し,特徴空間を分割することを繰り返して画像を層別に分解し,各領域において作成した散布図において統計的はずれ値を欠陥として検出することにより,正常パターンの明るさ変動に埋没した微小欠陥を認識可能とする. |
| 抄録(英) | To detect minute defects on the complicated multilayer patterns of semiconductor wafers, effective inspection algorithm is essential. There are multiple dies on a wafer that are designed to be same. We propose a highly sensitive die-to-die comparison algorithm that can recognize the defects buried in the pattern variation noise due to process fluctuation. This comparison algorithm is based on recursive splitting of feature space. The method has the same procedures as the regression tree. The images to be compared are separated into several regions by the recursive splitting of feature space. For each region, defects are recognized as statistical outliers in the scattergram of the images. The effectiveness of the method is confirmed through the experiments. |
| キーワード(和) | 比較検査 / 欠陥認識 / 回帰木 / 特徴空間 / 散布図 / はずれ値 |
| キーワード(英) | inspection / defect / regression tree / feature space / scattergram / statistical outlier |
| 資料番号 | PRMU2006-69 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | PRMU |
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| 開催期間 | 2006/9/1(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Pattern Recognition and Media Understanding (PRMU) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 特徴空間の再帰的分割に基づく半導体欠陥検査手法(テーマ関連セッション,事例ベースメディア解析) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | LSI wafer inspection method using recursive splitting of feature space |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 比較検査 / inspection |
| キーワード(2)（和/英） | 欠陥認識 / defect |
| キーワード(3)（和/英） | 回帰木 / regression tree |
| キーワード(4)（和/英） | 特徴空間 / feature space |
| キーワード(5)（和/英） | 散布図 / scattergram |
| キーワード(6)（和/英） | はずれ値 / statistical outlier |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 酒井 薫 / Kaoru SAKAI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日立製作所生産技術研究所 Hitachi, LTD., Production Engineering Research Laboratory |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 前田 俊二 / Shunji MAEDA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日立製作所生産技術研究所 Hitachi, LTD., Production Engineering Research Laboratory |
| 発表年月日 | 2006-09-08 |
| 資料番号 | PRMU2006-69 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 229 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 8 |
| 発行日 | |