| 講演名 | 2006-08-25 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般) 山雄 健史, 堀田 収, 堀口 嵩浩, 藤田 静雄, 神原 浩久, 森 裕平, 栗原 隆, 藤野 正家, 長田 裕也, 中條 善樹, 秋山 誠治, 竹ノ内 久美子, 前田 修一, |
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| 抄録(和) | 二光子吸収型3次元光メモリ材料への応用を目指し、二光子吸収過程により分子の結合断裂を生じる有機ホウ素化合物材料を用いて、物性値の変化およびその固定化について調べた。励起光源の波長の半波長に対し、一光子吸収のピークがそれぞれ短波長側と長波長側にある二種類のホウ素ポリマ材料を比較すると、前者のほうが二光子吸収による分子結合断裂の効率が高いことが実験的に確認された。モデル化合物に対する数値計算も行った結果、通常の一光子吸収のピーク波長よりも長波長側で、二光子吸収効率が高いことが示された。ホウ素ポリマの固体膜を用いて約40mJ/cm^2/pulseの近赤外パルス・レーザを照射したところ、10秒後には材料表面にコントラストの変化が明確に観測され始め、3分後にはその変化がほぼ完了することも分かった。コントラストの変化は光照射後2週間経っても維持され、有機ホウ素ポリマは物性値の固定化にも有効であることが判明した。 |
| 抄録(英) | The change and fixing of physical properties of organoboron materials, which shows the photolysis through two-photo absorption (TPA) process, were investigated for 3D optical memory application. The polymer, which shows shorter absorption wavelength than the half of excitation wavelength, was observed to have higher TPA photolysis efficiency compared to the one shows longer absorption wavelength. The numerical calculation for a model organoboron monomer also supported this possibility. Through the near-infrared laser irradiation having ～40mJ/cm^2/pulse, the contrast change of the polymer film surface was immediately induced and was almost finished after 3-minute-irradiation. This change was still observed even after 2 weeks. These promise that the organoboron materials are suitable for 3D optical memories. |
| キーワード(和) | 有機ホウ素ポリマ / 二光子吸収 / 三次元光メモリ |
| キーワード(英) | Two-photon absorption / organoboron polymer / 3D optical memory |
| 資料番号 | EMD2006-39,CPM2006-69,OPE2006-81,LQE2006-46 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 2006/8/17(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 有機ホウ素化合物の二光子吸収特性(光部品・電子デバイス実装技術,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Two-photon absorption characteristics of organoboron materials |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 有機ホウ素ポリマ / Two-photon absorption |
| キーワード(2)（和/英） | 二光子吸収 / organoboron polymer |
| キーワード(3)（和/英） | 三次元光メモリ / 3D optical memory |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 山雄 健史 / Takeshi YAMAO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科 Grad. School of Sci. and Tech., Kyoto Inst. of Tech. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 堀田 収 / Shu HOTTA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 京都工芸繊維大学大学院工芸科学研究科 Grad. School of Sci. and Tech., Kyoto Inst. of Tech. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 堀口 嵩浩 / Takahiro HORIGUCHI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 京都大学大学院工学研究科 Grad. School of Eng. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 藤田 静雄 / Shizuo FUJITA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 京都大学国際融合創造センター IIC, Kyoto Univ. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 神原 浩久 / Hirohisa KANBARA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 森 裕平 / Yuhei MORI |
| 第 6 著者 所属（和/英） | NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 栗原 隆 / Takashi KURIHARA |
| 第 7 著者 所属（和/英） | NTTフォトニクス研究所 NTT Photonics Labs. |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 藤野 正家 / Masaie FUJINO |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 群馬工業高等専門学校物質工学科 Gunma Nat. Coll. of Tech. |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 長田 裕也 / Yuya NAGATA |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 京都大学大学院工学研究科 Grad. School of Eng. |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 中條 善樹 / Yoshiki CHUJO |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 京都大学大学院工学研究科 Grad. School of Eng. |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 秋山 誠治 / Seiji AKIYAMA |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 三菱化学科学技術研究センター Mitsubishi Chemical Group Sci. and Tech. Research Center, Inc. |
| 第 12 著者 氏名（和/英） | 竹ノ内 久美子 / Kumiko TAKENOUCHI |
| 第 12 著者 所属（和/英） | 三菱化学科学技術研究センター Mitsubishi Chemical Group Sci. and Tech. Research Center, Inc. |
| 第 13 著者 氏名（和/英） | 前田 修一 / Shuuichi MAEDA |
| 第 13 著者 所属（和/英） | 三菱化学科学技術研究センター Mitsubishi Chemical Group Sci. and Tech. Research Center, Inc. |
| 発表年月日 | 2006-08-25 |
| 資料番号 | EMD2006-39,CPM2006-69,OPE2006-81,LQE2006-46 |
| 巻番号（vol） | vol.106 |
| 号番号（no） | 212 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
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