講演名 2006/6/26
連続波グリーンレーザーによるシリコン薄膜のグレイン成長
黒木 伸一郎, 藤井 俊太朗, 小谷 光司, 伊藤 隆司,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) DPSS-CWレーザーを用いた非晶質シリコンの低温結晶化を行った。レーザービームのスポットはレーザー照射領域で緩やかな熱勾配をもつように設計し、走査方向に引き伸ばした形状とした。この形状により結晶成長時間を長くすることができ、その結果、2次元的に結晶成長した(100)配向をもつシリコン薄膜を得ることができた。
抄録(英) Low temperature crystallization of amorphous silicon (a-Si) thin films using a diode-pumped solid state (DPSS) continuous wave (CW) laser was investigated. A laser beam spot was designed for a gradual slope of temperature in a laser irradiated region, and was elongated to a scanning direction. The elongated laser spot with a gradual slope of temperature make a crystallization time longer. Consequently, a two dimensional lateral crystallization of (100) well-oriented Si thin films was achieved.
キーワード(和) 多結晶シリコン薄膜 / 薄膜トランジスタ / レーザー結晶化方法
キーワード(英) polycrystalline silicon thin films / thin film transistor / Laser recrystallization
資料番号 ED2006-79,SDM2006-87
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2006/6/26(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 連続波グリーンレーザーによるシリコン薄膜のグレイン成長
サブタイトル(和)
タイトル(英) Large Grain Growth of Silicon Thin Films by using CW Green Laser(Session 6A Silicon Devices III,AWAD2006)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 多結晶シリコン薄膜 / polycrystalline silicon thin films
キーワード(2)(和/英) 薄膜トランジスタ / thin film transistor
キーワード(3)(和/英) レーザー結晶化方法 / Laser recrystallization
第 1 著者 氏名(和/英) 黒木 伸一郎 / Shin-Ichiro Kuroki
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 藤井 俊太朗 / Shuntaro Fujii
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) 小谷 光司 / Koji Kotani
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) 伊藤 隆司 / Takashi Ito
第 4 著者 所属(和/英) 東北大学大学院工学研究科
Graduate School of Engineering, Tohoku University
発表年月日 2006/6/26
資料番号 ED2006-79,SDM2006-87
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 138
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日