講演名 2006-07-28
マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析(電磁界理論技術,光・電波ワークショップ)
三芦 大樹, 川口 秀樹, 古川 雅一,
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抄録(和) 半導体素子製造の新しい方法であるマイクロ波励起表面波プラズマプロセスでは、印加されるマイクロ波とプラズマの生成、性質についてはまだ完全には解明されておらず、またマイクロ波の波長が装置のサイズと同程度であるため、効率的なプラズマの発生には形状の最適化を要するという問題がある。そこで本研究では、FDTD法にプラズマの運動量輸送方程式を加えてプロセス中のマイクロ波の振舞い及びプラズマの性質を数値的に解析し、より効率的なプロセス装置の設計に役立てるための検討を行ったので報告する。
抄録(英) The Surface-wave enhanced plasma process is advanced method of semiconductor device fabrications. However, Relation between microwave and plasma properties in this process is not sufficiently understood, and microwave requires optimizing shape and size of the device, because wavelength is almost same size as the device. Beyond on these backgrounds, we consider effective design of the device based on numerical analysis of microwave behavior by FDTD method coupling with plasma equation.
キーワード(和) FDTD / 表面波プラズマ / プラズマ / マイクロ波
キーワード(英) FDTD / surface-wave enhanced plasma / plasma / microwave
資料番号 MW2006-67,OPE2006-59
発行日

研究会情報
研究会 OPE
開催期間 2006/7/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Optoelectronics (OPE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析(電磁界理論技術,光・電波ワークショップ)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Numerical Analysis of Microwave Surface Plasma Processing by FDTD Method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) FDTD / FDTD
キーワード(2)(和/英) 表面波プラズマ / surface-wave enhanced plasma
キーワード(3)(和/英) プラズマ / plasma
キーワード(4)(和/英) マイクロ波 / microwave
第 1 著者 氏名(和/英) 三芦 大樹 / Taiki Miyoshi
第 1 著者 所属(和/英) 室蘭工業大学
Muroran Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 川口 秀樹 / Hideki Kawaguchi
第 2 著者 所属(和/英) 室蘭工業大学
Muroran Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 古川 雅一 / Masakazu Furukawa
第 3 著者 所属(和/英) 室蘭工業大学
Muroran Institute of Technology
発表年月日 2006-07-28
資料番号 MW2006-67,OPE2006-59
巻番号(vol) vol.106
号番号(no) 187
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日