講演名 2006-01-27
Si基板上(CdF_2/CaF_2)サブバンド間遷移レーザ構造のEL発光特性(光・電子ナノデバイス)
自念 圭輔, 菊池 毅, 内田 薫, 小平 新志, 渡辺 正裕, 浅田 雅洋,
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抄録(和) 弗化カルシウム(CdF_2)、弗化カドミウム(CdF_2)はシリコン(Si)基板上にエピタキシャル成長可能であり、これを用いた共鳴トンネルダイオード(RTD)やサブバンド間遷移(ISBT)を用いた光デバイスは、高速・高機能な量子効果デバイスを構成する材料系として有望である。CdF_2/CaF_2ヘテロ界面には~2.9eVの伝導体バンド不連続があるため、従来のサブバンド間遷移レーザでは不可能であった近赤外領域での発光が期待できる。我々は(CdF_2/CaF_2)を活性層に用いたサブバンド間遷移レーザ(量子カスケードレーザ)を提案し、しきい値電流密度の解析及び作製した(CdF_2/CaF_2)活性層からEL発光を観測した。本報告では、CdF_2/CaF_2サブバンド間遷移レーザ構造からのEL発光特性について述べる。
抄録(英) Room temperature electroluminescence from CdF_2/CaF_2 inter-subband transition laser structures on Si substrate is presented. CdF_2/CaF_2 heterostructure can be grown on silicon substrate epitaxially and has large conduction band offset at the heterointerface, which enable to short wavelength (near infrared) inter-subband optical transition in CdF_2 quantum-wells on silicon substrate. In this report, room temperature electroluminescence from (CdF_2/CaF_2) active region is presented and discussed.
キーワード(和) 弗化カルシウム / 弗化カドミウム / サブバンド間遷移レーザ / シリコン / 量子ヘテロ構造
キーワード(英) CaF_2 / CdF_2 / inter-subband transition laser / silicon / quantum heterostructure
資料番号 ED2005-232,SDM2005-244
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2006/1/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Si基板上(CdF_2/CaF_2)サブバンド間遷移レーザ構造のEL発光特性(光・電子ナノデバイス)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Electroluminescence from (CdF_2/CaF_2) Inter-subband Transition Laser Structures on Si substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 弗化カルシウム / CaF_2
キーワード(2)(和/英) 弗化カドミウム / CdF_2
キーワード(3)(和/英) サブバンド間遷移レーザ / inter-subband transition laser
キーワード(4)(和/英) シリコン / silicon
キーワード(5)(和/英) 量子ヘテロ構造 / quantum heterostructure
第 1 著者 氏名(和/英) 自念 圭輔 / Keisuke JINEN
第 1 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 菊池 毅 / Takeshi KIKUCHI
第 2 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 内田 薫 / Kaoru UCHIDA
第 3 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 小平 新志 / Shinji KODAIRA
第 4 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 渡辺 正裕 / Masahiro WATANABE
第 5 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科:科学技術振興機構SORST
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology:SORST-JST
第 6 著者 氏名(和/英) 浅田 雅洋 / Masahiro ASADA
第 6 著者 所属(和/英) 東京工業大学大学院総合理工学研究科
Interdisciplinary Graduate School of Science and Engineering, Tokyo Institute of Technology
発表年月日 2006-01-27
資料番号 ED2005-232,SDM2005-244
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 552
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日