講演名 2006-01-19
0.15μmデュアルゲートAlGaN/GaN HEMTミキサー(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
塩島 謙次, 牧村 隆司, 小杉 敏彦, 末光 哲也, 重川 直輝, 廣木 正伸, 横山 春喜,
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抄録(和) SiC基板上0.15μmデュアルゲートAlGaN/GaNHEMTミキサーを作製し、DC、及び変調特性を評価した。T字0.15×300μmゲートデバイスは最大相互コンダクタンス40mS, オン耐圧30V以上、オフ耐圧86Vを示した。電源電圧30V、ローカル周波数10GHzにおいて、最大RF出力17dBm, 変換利得7.5dBの特性を示した。ローカル周波数が2GHzから10GHzに増加しても、最大RF出力、及び変換利得の低下はそれぞれ2dB、2.6dBに抑えたれた。これらの結果はゲート長短縮による周波数特性の改善で、AlGaN/GaNデュアルゲートHEMTがX帯までの応用を実現できることを示唆するものである。
抄録(英) We have fabricated dual-gate AlGaN/GaN high-electron-mobility transistors (HEMTs) with a short gate on SiC substrates for use in high-power mixers and have measured the DC and up-conversion RF characteristics. A device with a T-shaped gate (0.15μm×300μm) exhibits a maximum transconductance of 40mS, an on-state breakdown voltage of over 30V, and off-state breakdown voltage of 86V. The maximum RF output power (P_) is 17dBm, and the up-conversion gain is 7.5dB at a frequency of 10GHz when the bias point voltage is 30V. As the local frequency increases from 2 to 10GHz, P_ and the gain decrease by only 2 and 2.6dB, respectively. Shortening the gate was found to be effective in improving the frequency characteristics of a mixer at frequencies up to and including the X-band.
キーワード(和) AlGaN/GaN HEMT / デュアルゲート構造 / 高出力ミキサー / 短ゲート
キーワード(英) AlGaN/GaN HEMT / Dual-gate structure / High-power mixer / Short gate
資料番号 ED2005-206,MW2005-160
発行日

研究会情報
研究会 MW
開催期間 2006/1/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Microwaves (MW)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 0.15μmデュアルゲートAlGaN/GaN HEMTミキサー(化合物半導体IC及び超高速・超高周波デバイス)
サブタイトル(和)
タイトル(英) 0.15-μm dual-gate AlGaN/GaN HEMT mixers
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) AlGaN/GaN HEMT / AlGaN/GaN HEMT
キーワード(2)(和/英) デュアルゲート構造 / Dual-gate structure
キーワード(3)(和/英) 高出力ミキサー / High-power mixer
キーワード(4)(和/英) 短ゲート / Short gate
第 1 著者 氏名(和/英) 塩島 謙次 / Kenji SHIOJIMA
第 1 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 2 著者 氏名(和/英) 牧村 隆司 / Takashi MAKIMURA
第 2 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 3 著者 氏名(和/英) 小杉 敏彦 / Toshihiko KOSUGI
第 3 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 4 著者 氏名(和/英) 末光 哲也 / Tetsuya SUEMITSU
第 4 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 5 著者 氏名(和/英) 重川 直輝 / Naoteru SHIGEKAWA
第 5 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 6 著者 氏名(和/英) 廣木 正伸 / Masanobu HIROKI
第 6 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
第 7 著者 氏名(和/英) 横山 春喜 / Haruki YAKOYAMA
第 7 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社NTTフォトニクス研究所
NTT Corporation NTT Photonics Laboratories
発表年月日 2006-01-19
資料番号 ED2005-206,MW2005-160
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 524
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日