| 講演名 | 2006-02-02 金属膜開口による光波回折の数値解析 : 電子の運動方程式を結合したFDTD法の適用(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般) 香川 晋弥, 何 一偉, 小嶋 敏孝, |
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| 抄録(和) | 近年, 光ディスク技術において, 高密度化が要求されている.しかし, 光の回折限界により, 現在の光記録方式による記録密度の上限は, 短波長を用いた場合でも数10 Gbit/inch^2であると言われている.そこで, 光の回折限界の打破を可能とする技術として, 光近接場技術が注目されている.本研究では, 近接場光を発生させる金属ナノ開口付近の電界分布の2次元数値解析をFDTD(Finite Difference Time Domain)法を用いて行う.また, そのナノ開口と相変化ディスク構造からなるディスクモデルにおける記録マーク読み取り特性の解析についても述ぺる.ここで, 光の波長領域において誘電率が負となる金属を含む系における電磁界解析を行うために, 電子の運動方程式を考慮したFDTD法を用いる. |
| 抄録(英) | Recently, a density growth is demanded in optical storage technologies. But, It is said that the upper limit of recording density by the current optical recording system is several tens of gigabits per inch square due to the optical diffraction limit even in the case of using a short wavelength. Then, as a technology that enables us to break down the optical diffraction limit, the optical near field technology has gotten a lot of attention. In this paper, we try to two-dimensional numerical analysis of electric field distributions near a metallic nanoaperture that generates an optical near field using the FDTD(Finite Difference Time Domain) method. We also carry out numerical analysis of readout characteristics of a recording mark of the disk model that consists of the nanoaperture and the phase change disk structure. In the present analysis, the FDTD method combined with the motion equation of electron is applied to a metallic medium whose permittivity can become negative at the optical wavelength range. |
| キーワード(和) | 光近接場 / 光記録 / ナノ開口 / 金属 / FDTD法 |
| キーワード(英) | Optical near field / Optical recording / Nanoaperture / Metal / FDTD method |
| 資料番号 | PN2005-88,OFT2005-75,OPE2005-136,LQE2005-151 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OFT |
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| 開催期間 | 2006/1/26(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Optical Fiber Technology (OFT) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 金属膜開口による光波回折の数値解析 : 電子の運動方程式を結合したFDTD法の適用(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Numerical analysis of light-wave diffraction from an aperture of a metallic layer : Application of the FDTD method combined with the motion equation of electron |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光近接場 / Optical near field |
| キーワード(2)（和/英） | 光記録 / Optical recording |
| キーワード(3)（和/英） | ナノ開口 / Nanoaperture |
| キーワード(4)（和/英） | 金属 / Metal |
| キーワード(5)（和/英） | FDTD法 / FDTD method |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 香川 晋弥 / Shinya KAGAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 関西大学大学院 Graduate School, Kansai University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 何 一偉 / Yiwei HE |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 大阪電気通信大学工学部 Faculty of Engineering, Osaka Electro-Communication University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 小嶋 敏孝 / Toshitaka KOJIMA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 関西大学大学院 Graduate School, Kansai University |
| 発表年月日 | 2006-02-02 |
| 資料番号 | PN2005-88,OFT2005-75,OPE2005-136,LQE2005-151 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 587 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |