講演名 2006-02-01
Si・Erを共添加したSiO_2膜の導波路型光増幅器への応用(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
住友 雅彦, 安達 哲也, 村上 圭太, 森脇 和幸, 藤井 稔, 林 真至, 渡辺 啓,
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抄録(和) SiとErを共添加したSiO_2膜の光導波路型増幅器への応用を目的として、Si濃度およびEr濃度を変化させ、励起光照射と非照射の両方の場合で、波長1.55μmの信号光伝搬特性を調べた。Er濃度を増加させると、フォトルミネッセンス強度も増加するが、高濃度になると減少の傾向が表れた。また、励起光非照射時に、Si濃度の増加と共に光導波損失が大きくなった。励起光照射時のSiナノ結晶による損失増加を示唆する結果も得ており、Siナノ結晶はErの増感剤として重要であるが、信号光を減衰させる作用も持つことを考慮する必要がある。またSi濃度とEr濃度も合わせて変化させた場合の光導波損失も測定し、それぞれの濃度と共に増加する結果を得た。光増幅の実現のために、これらの結果を踏まえたSi濃度とEr濃度の最適値の評価が重要である。
抄録(英) Waveguide propagation losses (λ : 1.55μm) in Si nanocrystals and Er codoped SiO_2 films were measured with various doping concentrations for an application to a waveguide amplifier. Photoluminescence intensity by Er ions was measured to be higher by increasing the Si concentration, and lower by increasing it further. Without excitation to a waveguide, the waveguide loss was increased by increased by increasing the Si concentration. It is important that the Si nanocrystals should be evaluated as a cause of a loss as well as a sensitizer for the amplifier. Propagation losses were also measured by changing both the Er and Si concentrations. It is important to optimize both the Si and Er concentrations, based on the results of those loss values.
キーワード(和) 増幅器 / 導波路 / シリコン / ナノ結晶 / Er
キーワード(英) Amplifier / waveguide / Silicon / Nanocrystal / Erbium
資料番号 PN2005-83,OFT2005-70,OPE2005-131,LQE2005-146
発行日

研究会情報
研究会 OPE
開催期間 2006/1/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Optoelectronics (OPE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Si・Erを共添加したSiO_2膜の導波路型光増幅器への応用(フォトニックNW・デバイス, フォトニック結晶・ファイバとその応用, 光集積回路, 光導波路素子, 光スイッチング, 導波路解析, 及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Application of Si・Er-codoped SiO_2 films to optical waveguide amplifiers
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 増幅器 / Amplifier
キーワード(2)(和/英) 導波路 / waveguide
キーワード(3)(和/英) シリコン / Silicon
キーワード(4)(和/英) ナノ結晶 / Nanocrystal
キーワード(5)(和/英) Er / Erbium
第 1 著者 氏名(和/英) 住友 雅彦 / Masahiko SUMITOMO
第 1 著者 所属(和/英) 神戸大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Kobe University
第 2 著者 氏名(和/英) 安達 哲也 / Tetsuya ADACHI
第 2 著者 所属(和/英) 神戸大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Kobe University
第 3 著者 氏名(和/英) 村上 圭太 / Keita MURAKAMI
第 3 著者 所属(和/英) 神戸大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Kobe University
第 4 著者 氏名(和/英) 森脇 和幸 / Kazuyuki MORIWAKI
第 4 著者 所属(和/英) 神戸大学大学院自然科学研究科:科学技術振興機構
Graduate School of Science and Technology, Kobe University:Japan Science And Technology Agency
第 5 著者 氏名(和/英) 藤井 稔 / Minoru FUJII
第 5 著者 所属(和/英) 神戸大学工学部
Faculty of Engineering, Kobe University
第 6 著者 氏名(和/英) 林 真至 / Shinji HAYASHI
第 6 著者 所属(和/英) 神戸大学工学部
Faculty of Engineering, Kobe University
第 7 著者 氏名(和/英) 渡辺 啓 / Kei WATANABE
第 7 著者 所属(和/英) NTTフォトニクス研究所
NTT Photonics Laboratories
発表年月日 2006-02-01
資料番号 PN2005-83,OFT2005-70,OPE2005-131,LQE2005-146
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 589
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日