講演名 2002/6/24
The effect of interface trap charges on poly-Si TFT
,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英) It is presented that the band mobility of polycrystalline silicon thin film transistor is mostly governed by the interface traps in case of the same grain size and that the mobility contains the parameter related with interface traps. Our proposed model includes parameters related with interface trap charges as well as grain boundary trap charges. The new method successfully explains that the large interface trap degrades the mobility. It is also possible to extract the interface trap charges from I-V transfer characteristics using our new model.
キーワード(和)
キーワード(英) poly-Si TFT / effective mobility / interface charge / modeling
資料番号 ED2002-153
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2002/6/24(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) The effect of interface trap charges on poly-Si TFT
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / poly-Si TFT
第 1 著者 氏名(和/英) / Kook Chul Moon
第 1 著者 所属(和/英)
School of Electrical Engineering, Seoul National University
発表年月日 2002/6/24
資料番号 ED2002-153
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 175
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日