講演名 | 2002/6/24 The effect of interface trap charges on poly-Si TFT , |
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抄録(和) | |
抄録(英) | It is presented that the band mobility of polycrystalline silicon thin film transistor is mostly governed by the interface traps in case of the same grain size and that the mobility contains the parameter related with interface traps. Our proposed model includes parameters related with interface trap charges as well as grain boundary trap charges. The new method successfully explains that the large interface trap degrades the mobility. It is also possible to extract the interface trap charges from I-V transfer characteristics using our new model. |
キーワード(和) | |
キーワード(英) | poly-Si TFT / effective mobility / interface charge / modeling |
資料番号 | ED2002-153 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ED |
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開催期間 | 2002/6/24(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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本文の言語 | ENG |
タイトル(和) | |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | The effect of interface trap charges on poly-Si TFT |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | / poly-Si TFT |
第 1 著者 氏名(和/英) | / Kook Chul Moon |
第 1 著者 所属(和/英) | School of Electrical Engineering, Seoul National University |
発表年月日 | 2002/6/24 |
資料番号 | ED2002-153 |
巻番号(vol) | vol.102 |
号番号(no) | 175 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |