講演名 2002/6/24
多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性解析とシミュレーション
木村 睦, 井上 聡, 下田 達也,
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抄録(和) 多結晶シリコン薄膜トランジスタ(poly-Si TFT)の特性解析とシミュレーションについて解説し,いくつかの応用を例示する.特性解析では,絶縁膜界面と結晶粒界のトラップ密度を抽出する手法を開発し,実際のトラップ密度を抽出し,劣化を解析する.デバイスシミュレーションでは,これらのトラップ準位を導入し,結晶粒界でのキャリア輸送をモデル化し,トランジスタ特性のトラップ準位に対する依存性を解析する。回路シミュレーションでは,数値モデルを開発し,実測または上述のデバイスシミュレーションによるトランジスタ特性を再現する.
抄録(英) Characterization and simulation of polycrystalline-silicon thin-film transistors (poly-Si TFTs) are explained with some examples of their applications. For characterization, a technique to extract trap densities at oxide interfaces and grain boundaries has been developed. Actual trap densities are extracted, and degradation is analyzed. For device simulation, these trap states are implemented and carrier transport through grain boundaries is modeled. Dependence of transistor characteristics on these trap states is analyzed. For circuit simulation, a numerical model has been developed to reproduce transistor characteristics using experiments or the device simulation mentioned above.
キーワード(和) 多結晶シリコン / poly-Si / 薄膜トランジスタ / TFT / 特性解析 / シミュレーション
キーワード(英) Polycrystalline-Silicon / poly-Si / Thin-Film Transistor / TFT / Characterization / Simulation
資料番号 ED2002-151
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2002/6/24(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 ENG
タイトル(和) 多結晶シリコン薄膜トランジスタの特性解析とシミュレーション
サブタイトル(和)
タイトル(英) Characterization and Simulation of Polycrystalline-Silicon Thin-Film Transistors
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 多結晶シリコン / Polycrystalline-Silicon
キーワード(2)(和/英) poly-Si / poly-Si
キーワード(3)(和/英) 薄膜トランジスタ / Thin-Film Transistor
キーワード(4)(和/英) TFT / TFT
キーワード(5)(和/英) 特性解析 / Characterization
キーワード(6)(和/英) シミュレーション / Simulation
第 1 著者 氏名(和/英) 木村 睦 / Mutsumi KIMURA
第 1 著者 所属(和/英) セイコーエプソン株式会社 テクノロジープラットフォーム研究所
Technology Platform Research Center, Seiko Epson Corporation
第 2 著者 氏名(和/英) 井上 聡 / Satoshi INOUE
第 2 著者 所属(和/英) セイコーエプソン株式会社 テクノロジープラットフォーム研究所
Technology Platform Research Center, Seiko Epson Corporation
第 3 著者 氏名(和/英) 下田 達也 / Tatsuya SHIMODA
第 3 著者 所属(和/英) セイコーエプソン株式会社 テクノロジープラットフォーム研究所
Technology Platform Research Center, Seiko Epson Corporation
発表年月日 2002/6/24
資料番号 ED2002-151
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 175
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日