| 講演名 | 2002/6/24 Effect of Time-varying Axial Magnetic Field on High Aspect Ratio SiO_2 Etching in an Inductively Coupled Plasma , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Low frequency weak magnetic field is applied axially to an inductively coupled plasma (ICP). Efficient power transfer from RF source to plasma is enhanced by the axial magnetic field. High aspect ratio deep-sub-micron contact holes in BPSG have been etched by C_4F_8/Ar plasma. The role of deposition of polymeric precursors in the etching process is monitored. By means of appearance mass spectroscopy (AMS), the distributions of fluorocarbon ions (CF_X^+; x=1-3) and CF_X radicals are measured as a function of magnetization frequency. The axial magnetic field is found to influence the densities of CF_X ions and F and CF_X radicals. X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) shows that fluorocarbon polymer on BPSG layer strongly varies with the magnetization frequency. Contact holes of 0.1 μm diameter with aspect ratio of 10 are successfully fabricated in this system. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | ICP / High aspect ratio contact hole etching / C_4F_8/Ar plasma / AMS / XPS |
| 資料番号 | ED2002-145 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2002/6/24(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Effect of Time-varying Axial Magnetic Field on High Aspect Ratio SiO_2 Etching in an Inductively Coupled Plasma |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / ICP |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Ho-Young Song |
| 第 1 著者 所属（和/英） | m-PARC, School of Information and Communication Engineering Inha University |
| 発表年月日 | 2002/6/24 |
| 資料番号 | ED2002-145 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 175 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |