講演名 2002/4/4
書き込み速度10MB/sの125mm^21GビットNAND型フラッシュメモリ
河合 鉱一, 今宮 賢一, 中村 寛,
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抄録(和) 0.13umのCMOS技術を用いることによって、チップサイズ125mm^2の1GビットNAND型フラッシュを開発した。メモリの構成を変えることによりチップサイズを縮小し、また10.6MB/sの書き込み速度、20MB/sの読み出し速度を実現した。ページコピー機能によりデータの書き換えスピードも9.4MB/sに達する。
抄録(英) A 125mm^2 1Gb NAND flash is achieved by using 0.13μm-CMOS. Cell size is 0.077μm^2. Chip architecture is changed to reduce chip size and to realize high performance of 10.6MB/s throughput for program and 20MB/s for read. On-chip page copy function provides 9.4MB/s throughput for garbage collection.
キーワード(和) 大容量 / フラッシュメモリ / NAND型 / 書き込み性能
キーワード(英) High density / Flash memory / NAND type / Program performance
資料番号 ICD2002-6
発行日

研究会情報
研究会 ICD
開催期間 2002/4/4(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Integrated Circuits and Devices (ICD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 書き込み速度10MB/sの125mm^21GビットNAND型フラッシュメモリ
サブタイトル(和)
タイトル(英) A 125mm^2 1Gb NAND Flash Memory with 10MB/s Program Throughput
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 大容量 / High density
キーワード(2)(和/英) フラッシュメモリ / Flash memory
キーワード(3)(和/英) NAND型 / NAND type
キーワード(4)(和/英) 書き込み性能 / Program performance
第 1 著者 氏名(和/英) 河合 鉱一 / Koichi KAWAI
第 1 著者 所属(和/英) (株)東芝セミコンダクター社メモリ事業部先端メモリ開発センター
Memory LSI R&D Center, Memory Division, Toshiba Corporation Semiconductor Company
第 2 著者 氏名(和/英) 今宮 賢一 / Kenichi IMAMIYA
第 2 著者 所属(和/英) (株)東芝セミコンダクター社メモリ事業部先端メモリ開発センター
Memory LSI R&D Center, Memory Division, Toshiba Corporation Semiconductor Company
第 3 著者 氏名(和/英) 中村 寛 / Hiroshi NAKAMURA
第 3 著者 所属(和/英) (株)東芝セミコンダクター社メモリ事業部先端メモリ開発センター
Memory LSI R&D Center, Memory Division, Toshiba Corporation Semiconductor Company
発表年月日 2002/4/4
資料番号 ICD2002-6
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 2
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日