| 講演名 | 2005/11/17 位置選択的分子ハイブリッド法により作製したポリイミド-シリカハイブリッドフィルムの電気的・機械的特性(機能性有機薄膜・一般) 舘 孝一, 花野 伸悟, 間柄 誠二, 青木 裕介, 中村 修平, 藤原 隆行, |
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| 抄録(和) | シリカをポリマーの特定の位置に集中的に結合させる位置選択的分子ハイブリッド法を用いると、微細なシリカ粒子を均一に分散させることが可能であり、ポリイミドの耐熱性、絶縁性などの特徴を保持したまま、有機-無機基板への密着性、耐熱性、優れた機械的強度が期待されている。本報告では室温及び200℃において、ポリイミド-シリカハイブリッドのポリイミドに対するシリカ重量比を変えて金属基版への密着性、電気絶縁特性の評価を行った。このハイブリッド材料は密着性の向上及び、200℃においておよそ10^<15>Ω・cmと高い体積抵抗率を示し、電気絶縁材料の応用として、優れた材料であると言える。 |
| 抄録(英) | Polyimide-silica hybrid materials prepared by using a Site Selective Molecular Hybrid Method is expected adhesion to organic and inorganic substrates, heat resistivity, and good mechanical strength compared to the original polyimide materials, and have a great potential for the application to the materials of insulators. In this work, we evaluated adhesion to metal substrates and the electrical and insulating properties of polyimide-silica hybrid materials with various weight ratios of silica to polyimide at room temperature and 200℃. The hybrid materials increase adhesive strength and exhibit a higher volume resistivity of about 10^<15>Ω・cm at 200℃ |
| キーワード(和) | 位置選択的分子ハイブリッド / 電気絶縁特性 / 誘電特性 / 密着性 |
| キーワード(英) | Site Selective Molecular Hybrid Method / electrical insulating property / dielectrical property / adhesion property |
| 資料番号 | OME2005-87 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OME |
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| 開催期間 | 2005/11/17(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 位置選択的分子ハイブリッド法により作製したポリイミド-シリカハイブリッドフィルムの電気的・機械的特性(機能性有機薄膜・一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Electrical and mechanical properties of Polyimide-Silica Hybrid films prepared from Site Selective Molecular Hybrid Method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 位置選択的分子ハイブリッド / Site Selective Molecular Hybrid Method |
| キーワード(2)（和/英） | 電気絶縁特性 / electrical insulating property |
| キーワード(3)（和/英） | 誘電特性 / dielectrical property |
| キーワード(4)（和/英） | 密着性 / adhesion property |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 舘 孝一 / Kouichi TACHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 三重大学工学部 Faculty of Engineering, Mie University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 花野 伸悟 / Shingo HANANO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 三重大学工学部 Faculty of Engineering, Mie University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 間柄 誠二 / Seiji MAGARA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 三重大学工学部 Faculty of Engineering, Mie University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 青木 裕介 / Yusuke AOKI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 三重大学工学部 Faculty of Engineering, Mie University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 中村 修平 / Shuhei NAKAMURA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 三重大学工学部 Faculty of Engineering, Mie University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 藤原 隆行 / Takayuki FUJIWARA |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 荒川化学工業株式会社研究所 Laboratory, Arakawa Chemical Industries, Ltd. |
| 発表年月日 | 2005/11/17 |
| 資料番号 | OME2005-87 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 425 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |