講演名 2005-12-02
C言語設計によるリアルタイム粒子追跡システム(VLSIの設計/検証/テスト及び一般(デザインガイア))
上甲 憲市, 大口 貴裕, 上津 寛和, 酒井 皓司, 大倉 崇宜, 神戸 尚志,
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抄録(和) 粒子追跡技術は、流れ場を空間的に連続して測定することを目的とし、様々な手法が提案されている。本論文では粒子マスク相関法(PMC法: Particle Mask Correlation Method)と、カルマンフィルタ(Kalman-filter)とχ^2検定(Chai-square Test)を組み合わせたKC法を用い、ソフトウエアとハードウエアで構成するシステムを設計し、処理の高速化によるリアルタイム動作の実現について述べる。
抄録(英) Various techniques are proposed to track particles in the field continuously. In this paper, a software and hardware system based on the PMC and the KC method that combines the particle mask correlation method with the kalman filter and Chai-square Test is designed to achieve real time processing. And the processing speed and the area of the system are evaluated.
キーワード(和) 粒子マスク相関法 / カルマンフィルタ法 / χ^2検定 / ハードウエア/ソフトウエア協調設計 / Bachシステム
キーワード(英) Particle Mask Correlation method / Kalman-filter / Chai-square Test / software/hardware co-design / Bach system
資料番号 VLD2005-81,ICD2005-176,DC2005-58
発行日

研究会情報
研究会 VLD
開催期間 2005/11/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 VLSI Design Technologies (VLD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) C言語設計によるリアルタイム粒子追跡システム(VLSIの設計/検証/テスト及び一般(デザインガイア))
サブタイトル(和)
タイトル(英) C-Based design of a Real-time Particle Tracking System
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 粒子マスク相関法 / Particle Mask Correlation method
キーワード(2)(和/英) カルマンフィルタ法 / Kalman-filter
キーワード(3)(和/英) χ^2検定 / Chai-square Test
キーワード(4)(和/英) ハードウエア/ソフトウエア協調設計 / software/hardware co-design
キーワード(5)(和/英) Bachシステム / Bach system
第 1 著者 氏名(和/英) 上甲 憲市 / Kenichi JYOKO
第 1 著者 所属(和/英) 近畿大学大学院総合理工学研究科
Kinki University
第 2 著者 氏名(和/英) 大口 貴裕 / Takahiro OHGUCHI
第 2 著者 所属(和/英) 近畿大学大学院総合理工学研究科
Kinki University
第 3 著者 氏名(和/英) 上津 寛和 / Hirokazu UETU
第 3 著者 所属(和/英) 近畿大学理工学部電気電子工学科
Kinki University
第 4 著者 氏名(和/英) 酒井 皓司 / Koji SAKAI
第 4 著者 所属(和/英) 近畿大学理工学部電気電子工学科
Kinki University
第 5 著者 氏名(和/英) 大倉 崇宜 / Takanori OHKURA
第 5 著者 所属(和/英) 日本圧着端子製造株式会社
/ Kinki University
第 6 著者 氏名(和/英) 神戸 尚志 / Takashi KAMBE
第 6 著者 所属(和/英) 近畿大学理工学部電気電子工学科
発表年月日 2005-12-02
資料番号 VLD2005-81,ICD2005-176,DC2005-58
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 443
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日