講演名 2005-11-12
低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
岡田 好正, 清水 英彦, 森 貴志, 岩野 春男, 川上 貴浩, 星 陽一, 丸山 武男,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 本研究では, プラズマスパッタ法を用いて容易にYBCO薄膜の作製を実現できるようにするための基礎研究として, RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法を用いて膜を作製し, 比較・検討を行った。その結果, RF-DC結合型スパッタ法と従来のRFマグネトロンスパッタ法のどちらも, スパッタ堆積した膜は, ターゲット組成と比べ, Baのような重い元素は少なく, Yのような軽い元素が多く含まれていた。また, 熱処理を行っても, YBCOの結晶化はできず, YBCO結晶とは異なる材料の結晶化しか行うことはできなかった。従って, RF-DC結合型スパッタ法による膜作製条件等をさらに検討する必要があることが分かった。
抄録(英) In this study, in order to consider the preparation of YB_2C_3O_7 (YBCO) thin films using the plasma sputtering method, deposition of YBCO thin films was tried by RF-DC coupled magnetron sputtering method. As a result, it was observed that the amount of an atom with large mass, such as Ba, decreased in the films and the amount of an atom with small mass, such as Y, increased in the films, compared with composition of a sputtering target. The crystal of YBCO was not able to be obtained in those films however films deposited by RF-DC coupled magnetron sputtering method and conventional magnetron sputtering method were annealed. Therefore, in order to preparation of YBCO films by the RF-DC coupled magnetron sputtering method, the conditions of the experiment by the RF-DC coupled magnetron sputtering method needed to be examined further.
キーワード(和) RF-DC結合型スパッタ法 / 選択スパッタ / 組成 / 結晶化
キーワード(英) YBCO / RF-DC coupled magnetron sputtering method / preferential sputtering / composition / crystallization
資料番号 CPM2005-169
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2005/11/5(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 低電圧スパッタ法によるYBCO薄膜の作製及び評価(薄膜プロセス・材料, 一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Examination and Preparation of YBCO Thin Film by Low Voltage Sputtering Method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) RF-DC結合型スパッタ法 / YBCO
キーワード(2)(和/英) 選択スパッタ / RF-DC coupled magnetron sputtering method
キーワード(3)(和/英) 組成 / preferential sputtering
キーワード(4)(和/英) 結晶化 / composition
第 1 著者 氏名(和/英) 岡田 好正 / Yoshimasa OKADA
第 1 著者 所属(和/英) 新潟大学自然科学研究科
Guraduate School of Science and Technology, Niigata University
第 2 著者 氏名(和/英) 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU
第 2 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部:新潟大学超域研究機構
Faculty of Engineering, Niigata University:Center for Transdisciplinary Research, Niigata University
第 3 著者 氏名(和/英) 森 貴志 / Takashi MORI
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 4 著者 氏名(和/英) 岩野 春男 / Haruo IWANO
第 4 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 5 著者 氏名(和/英) 川上 貴浩 / Takahiro KAWAKAMI
第 5 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 6 著者 氏名(和/英) 星 陽一 / Youichi HOSHI
第 6 著者 所属(和/英) 東京工芸大学工学部
Faculty of Engineering, Tokyo Polytechnics University
第 7 著者 氏名(和/英) 丸山 武男 / Takeo MARUYAMA
第 7 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
発表年月日 2005-11-12
資料番号 CPM2005-169
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 394
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日