| 講演名 | 2005/10/14 イオンビームアシストで作製されたDLC薄膜の摩擦・摩耗特性(<特集>「トライボロジー」) 鷹野 一朗, 足立 真宏, 佐々木 道子, 中村 勲, |
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| 抄録(和) | ステンレス鋼基板上にイオンビームアシスト法で作製されたダイヤモンド状炭素(DLC)薄膜の機械的特性を調べた.イオンビームアシストは, エチレン雰囲気中で不活性イオンビーム照射を行う方法である.本研究では, He^+イオンビームのエネルギーを5-18keV, 照射電流密度は10-100μA/cm^2の範囲で変化した.薄膜の深さ方向の組成と構造は, X線光電子分光法とラマン分光法で測定した.硬さと摩擦係数の測定は微小硬度計によるヌープ硬さとピン・オン・ディスク型の摩擦摩耗試験から判断し, 機械特性に対する最適な条件を求めた. |
| 抄録(英) | The mechanical properties of diamond-like carbon (DLC) thin films on an SUS304 substrate have been studied. DLC thin films were prepared by the ion beam assisted deposition method. In this method, He^+ ion irradiation was carried out in a C_2H_4 gas atmosphere. He^+ ions were accelerated at energy of 5-18 keV, and the ion beam current densities were changed from 10 to 100μA/cm^2. Atomic concentration and structure of the films were investigated by X-ray photoelectron spectroscopy and Raman spectroscopy. The most suitable mechanical properties of hardness and friction coefficient were determined using the Knoop hardness tester and the pin-on-disk tribometer. |
| キーワード(和) | イオンビームアシスト法 / DLC薄膜 / 摩擦・摩耗特性 |
| キーワード(英) | Ion beam assisted method / DLC thin film / Tribological property |
| 資料番号 | EMD2005-58 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 2005/10/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | イオンビームアシストで作製されたDLC薄膜の摩擦・摩耗特性(<特集>「トライボロジー」) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Tribological Properties of DLC Thin Films Prepared by Ion Beam Assisted Deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | イオンビームアシスト法 / Ion beam assisted method |
| キーワード(2)（和/英） | DLC薄膜 / DLC thin film |
| キーワード(3)（和/英） | 摩擦・摩耗特性 / Tribological property |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 鷹野 一朗 / Ichiro TAKANO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 工学院大学工学部 Faculty of Engineering, Kogakuin University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 足立 真宏 / Masahiro ADACHI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 工学院大学工学部 Faculty of Engineering, Kogakuin University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 佐々木 道子 / Michiko SASAKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 理化学研究所先端技術開発支援センター Advanced Development and Supporting Center, The Institute of Physical and Chemical Research |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 中村 勲 / Isao NAKAMURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東海大学電子情報学部 School of Information Technology and Electronics, Tokai University |
| 発表年月日 | 2005/10/14 |
| 資料番号 | EMD2005-58 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 359 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |