| 講演名 | 2005-10-21 キャラクタプロジェクション法のためのセルライブラリ開発手法(プロセッサ, DSP, 画像処理技術及び一般) 杉原 真, 高田 大河, 中村 健太, 稲浪 良市, 林 博昭, 岸本 克己, 長谷部 鉄也, 河野 幸弘, 松永 裕介, 村上 和彰, 奥村 勝弥, |
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| 抄録(和) | 本稿では, 電子ビーム直描で用いられるキャラクタプロジェクション法のスループットを向上するセルライブラリ開発手法について議論する.第一に, 整数計画法に基づいたセル選択手法を提案する.製造時間, すなわちショット数が最小になるように, キャラクタプロジェクション法で描画するセルと, VSBで描画するセルを選択する.次に, セルの反転の有無が回路の面積と遅延に及ぼす影響を調査する.反転されたセルはCPアパーチャマスク上では異なるものとして扱われるために, 反転されたセルを削減することはより多くのセルをCPアパーチャマスク上に搭載できることを意味する.最後に, ケーススタディを行い, 提案手法の有効性を検証する. |
| 抄録(英) | We propose a cell library development methodology for throughput enhancement of electron beam direct-write (EBDW) systems. First, an ILP (Integer Linear Programming)-based cell selection is proposed for EBDW systems in which both of the character projection (CP) and the variable shaped beam (VSB) methods are available, in order to minimize the number of electron beam (EB) shots, that is, time to fabricate chips. Secondly, the influence of cell directions on area and delay time of chips is examined. The examination helps to reduce the number of EB shots with a little deterioration of area and delay time because unnecessary directions of cells can be removed to increase the number of cells on a CP aperture mask. Finally, a case study is shown in which the numbers of EB shots are examined under several cases. |
| キーワード(和) | キャラクタプロジェクション / スループット / 電子ビーム直描 / マスク描画 |
| キーワード(英) | Character Projection / Cell Library / Electron Beam Direct-Write / Photomask |
| 資料番号 | SIP2005-128,ICD2005-147,IE2005-92 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ICD |
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| 開催期間 | 2005/10/14(から1日開催) |
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| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Integrated Circuits and Devices (ICD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | キャラクタプロジェクション法のためのセルライブラリ開発手法(プロセッサ, DSP, 画像処理技術及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A cell library development methodology for character projection |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | キャラクタプロジェクション / Character Projection |
| キーワード(2)（和/英） | スループット / Cell Library |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム直描 / Electron Beam Direct-Write |
| キーワード(4)（和/英） | マスク描画 / Photomask |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 杉原 真 / Makoto SUGIHARA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 財団法人九州システム情報技術研究所 ISIT |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 高田 大河 / Taiga TAKATA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 九州大学 / |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 中村 健太 / Kenta NAKAMURA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 九州大学 Konan Park Bldg. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 稲浪 良市 / Ryoichi INANAMI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | イービーム / Konan Park Bldg. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 林 博昭 / Hiroaki HAYASHI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロン / Konan Park Bldg. |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 岸本 克己 / Katsumi KISHIMOTO |
| 第 6 著者 所属（和/英） | イービーム / / |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 長谷部 鉄也 / Tetsuya HASEBE |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東京エレクトロン |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 河野 幸弘 / Yukihiro KAWANO |
| 第 8 著者 所属（和/英） | イービーム |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 松永 裕介 / Yusuke MATSUNAGA |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 九州大学 |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 村上 和彰 / Kazuaki MURAKAMI |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 九州大学 |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 奥村 勝弥 / Katsuya OKUMURA |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 東京大学 |
| 発表年月日 | 2005-10-21 |
| 資料番号 | SIP2005-128,ICD2005-147,IE2005-92 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 352 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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