| 講演名 | 2002/6/28 スラブ光導波路分光法による石英表面に対するヘモグロビンの吸着挙動のその場測定 松田 直樹, 吉田 貴充, 浅野 肇, ホセ サントス, 祁 志美, 高津 章子, 加藤 健次, |
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| 抄録(和) | Octyltrichlorosilane(OTS)で表面処理を行い疎水性にした石英板をスラブ光導波路(SOWG)として吸収スペクトルのその場測定を行い、ヘモグロビンの吸着現象を研究した。疎水性表面には親水性表面よりも多くのヘモグロビンが吸着した。吸着量は表面処理に要する時間と溶液の濃度に依存して増加した。疎水性表面へのヘモグロビンの吸着は1時間以上経過しても平衡に達しなかったが、親水性表面では数分内に吸光度がほぼ一定となった。一度、表面に吸着したヘモグロビンは緩衝溶液を入れても安定に存在し、還元剤の溶液により還元されることが確認された。 |
| 抄録(英) | In situ observation of the adsorption phenomena of hemoglobin on both hydrophilic and hydrophobic quartz surfaces has been performed by slab optical waveguide spectroscopy. The absorption intensity of hemoglobin increased for more than one hour on hydrophobic surfaces, while it took only a few minutes to reach the equilibrium value in the case of hydrophilic ones. The adsorbed hemoglobin remained stable on quartz surfaces even after changing of solutions in the cell, and showed the activities of reduction and oxidation by Na_2S_2O_4 solution and O_2 in air, respectively. |
| キーワード(和) | スラブ光導波路分光法 / 吸収スペクトル / ヘモグロビン / 疎水性 |
| キーワード(英) | slab optical waveguide spectroscopy / absorption spectra / hemoglobin / hydrophobicity |
| 資料番号 | CPM2002-49 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2002/6/28(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スラブ光導波路分光法による石英表面に対するヘモグロビンの吸着挙動のその場測定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | In Situ Observation of Adsorption Process of Hemoglobin on Quartz Surfaces by Slab Optical Waveguide Spectroscopy |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | スラブ光導波路分光法 / slab optical waveguide spectroscopy |
| キーワード(2)（和/英） | 吸収スペクトル / absorption spectra |
| キーワード(3)（和/英） | ヘモグロビン / hemoglobin |
| キーワード(4)（和/英） | 疎水性 / hydrophobicity |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 松田 直樹 / Naoki MATSUDA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 界面ナノアーキテクトニクス研究センター Nanoarchitectonics Research Center, AIST |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 吉田 貴充 / Takamitsu YOSHIDA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 筑波大学工学研究科物質工学専攻 Institute of Materials Science, University of Tsukuba |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 浅野 肇 / Hajime ASANO |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 筑波大学工学研究科物質工学専攻 Institute of Materials Science, University of Tsukuba |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | ホセ サントス / Jose SANTOS |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 界面ナノアーキテクトニクス研究センター Nanoarchitectonics Research Center, AIST |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 祁 志美 / Zhi-mei Qi |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 界面ナノアーキテクトニクス研究センター Nanoarchitectonics Research Center, AIST |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 高津 章子 / Akiko Takatsu |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 計測標準研究部門 National Metrological Laboratory |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 加藤 健次 / Kenji KATO |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 産業技術総合研究所 計測標準研究部門 National Metrological Laboratory |
| 発表年月日 | 2002/6/28 |
| 資料番号 | CPM2002-49 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 184 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
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