| 講演名 | 2005-12-09 MEMS集積化フォトニック結晶導波路の作製と評価(半導体レーザ関連技術, 及び一般) 岩本 敏, 山田 博仁, 徳島 正敏, 五明 明子, 肥後 昭男, 年吉 洋, 石田 悟己, 荒川 泰彦, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | フォトニック結晶の光学特性を動的に制御する技術はフォトニック結晶の光集積化回路への応用上重要である。MEMSによる機械的変調はひとつの有用なアプローチである。我々は、フォトニック結晶導波路上にポリシリコンプレートを作製し、静電気力によりフォトニック結晶導波路とポリシリコン平板の間隔を変化させることで、フォトニック結晶導波路の特性を制御することに成功した。電圧印加に伴って、プレートがフォトニック結晶導波路に接近し、素子の透過率が減少した。印加電圧60Vで消光比～10dB, 応答時間～1msであった。同様な構成により、フォトニック結晶点欠陥共振器の制御なども可能であり、様々なフォトニック結晶素子の制御技術として重要となると期待できる。 |
| 抄録(英) | Micro mechanical control of optical properties of photonic crystals (PCs) is one of promising approach to achieve tunability in PCs. We fabricated a PC waveguide and a poly-silicon membrane located above the PC waveguide and demonstrated micro mechanical controlled tuning of PC waveguide by changing the distance between the PC waveguide and the plate using the electrostatic force. A maximum extinction ratio of ～10 dB and a response time of ～1 ms were obtained at an applied voltage of 60V. This technique can be applied to control PC nanocavities, which play essential roles in many kinds of PC devices. |
| キーワード(和) | フォトニック結晶 / 導波路 / 変調器 |
| キーワード(英) | Photonic Crystal / MEMS / Optical Waveguide / Modulator |
| 資料番号 | LQE2005-121 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
|---|---|
| 開催期間 | 2005/12/2(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | MEMS集積化フォトニック結晶導波路の作製と評価(半導体レーザ関連技術, 及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication and characterization of MEMS-integrated photonic crystal waveguide |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フォトニック結晶 / Photonic Crystal |
| キーワード(2)（和/英） | 導波路 / MEMS |
| キーワード(3)（和/英） | 変調器 / Optical Waveguide |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 岩本 敏 / Satoshi Iwamoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター:東京大学生産技術研究所 Research Center for Advanced Science and Technology, University of Tokyo:Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山田 博仁 / Hirohito Yamada |
| 第 2 著者 所属（和/英） | NEC基礎環境研究所 Fundamental and Environmental Research Laboratories, NEC Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 徳島 正敏 / Masatoshi Tokushima |
| 第 3 著者 所属（和/英） | NEC基礎環境研究所 Fundamental and Environmental Research Laboratories, NEC Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 五明 明子 / Akiko GOMYO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | NEC基礎環境研究所 Fundamental and Environmental Research Laboratories, NEC Corporation |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 肥後 昭男 / Akio HIGO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所 Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 年吉 洋 / Hiroshi TOSHIYOSHI |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所 Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 石田 悟己 / Sstomi ISHIDA |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター Research Center for Advanced Science and Technology, University of Tokyo |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 荒川 泰彦 / Yasuhiko ARAKAWA |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東京大学先端科学技術研究センター:東京大学生産技術研究所 Research Center for Advanced Science and Technology, University of Tokyo:Institute of Industrial Science, University of Tokyo |
| 発表年月日 | 2005-12-09 |
| 資料番号 | LQE2005-121 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 455 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |