講演名 | 1999/10/22 GaNの選択成長及び横方向成長 平松 和政, |
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抄録(和) | 減圧MOVPE法及び常圧HVPE法でWマスクを用いたGaNの選択成長及び横方向成長(ELO)を行った。MOVPE法による成長では2段階のELOを行うことにより、Wの埋め込み構造を実現できた。また、HVPE法により成長させたELO GaNの結晶性と光学的特性をX線回折とカソードルミネッセンス(CL)により評価したところ、c軸の揺らぎが小さく、均一な束縛励起子発光が得られた。このことからWマスクを用いたELO GaNはSiO_2マスクを用いたELO GaNと比較して、結晶性が優れていることが明らかになった。 |
抄録(英) | ELO GaN using W mask has been performed by low pressure MOVPE and atmospheric HVPE. For the growth by low pressure MOVPE, the W buried structure is successfully obtained by two step ELO technique. Crystal and optical properties of ELO GaN using W mask via HVPE have been characterized by X-ray diffraction and cathodoluminescence. The tilts of c-axis of ELO GaN using W mask is much smaller than that of ELO GaN using SiO_2 mask. Uniform bound excitonic emission is observed from ELO GaN using W mask. It is found that the quality of ELO GaN using W mask is much better than that of ELO GaN using SiO_2 mask. |
キーワード(和) | GaN / 選択成長 / 横方向成長(ELO) / タングステン / MOVPE / HVPE / CL |
キーワード(英) | GaN / selective area growth / epitaxial lateral overgrowth (ELO) / tungsten / MOVPE / HVPE / CL |
資料番号 | ED99-198 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ED |
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開催期間 | 1999/10/22(から1日開催) |
開催地(和) | |
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テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | GaNの選択成長及び横方向成長 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Selective Area Growth and Epitaxial Lateral Overgrowth of GaN |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | GaN / GaN |
キーワード(2)(和/英) | 選択成長 / selective area growth |
キーワード(3)(和/英) | 横方向成長(ELO) / epitaxial lateral overgrowth (ELO) |
キーワード(4)(和/英) | タングステン / tungsten |
キーワード(5)(和/英) | MOVPE / MOVPE |
キーワード(6)(和/英) | HVPE / HVPE |
キーワード(7)(和/英) | CL / CL |
第 1 著者 氏名(和/英) | 平松 和政 / Kazumasa Hiramatsu |
第 1 著者 所属(和/英) | 三重大学工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Mie University |
発表年月日 | 1999/10/22 |
資料番号 | ED99-198 |
巻番号(vol) | vol.99 |
号番号(no) | 377 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |