講演名 1999/10/22
GaNの選択成長及び横方向成長
平松 和政,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 減圧MOVPE法及び常圧HVPE法でWマスクを用いたGaNの選択成長及び横方向成長(ELO)を行った。MOVPE法による成長では2段階のELOを行うことにより、Wの埋め込み構造を実現できた。また、HVPE法により成長させたELO GaNの結晶性と光学的特性をX線回折とカソードルミネッセンス(CL)により評価したところ、c軸の揺らぎが小さく、均一な束縛励起子発光が得られた。このことからWマスクを用いたELO GaNはSiO_2マスクを用いたELO GaNと比較して、結晶性が優れていることが明らかになった。
抄録(英) ELO GaN using W mask has been performed by low pressure MOVPE and atmospheric HVPE. For the growth by low pressure MOVPE, the W buried structure is successfully obtained by two step ELO technique. Crystal and optical properties of ELO GaN using W mask via HVPE have been characterized by X-ray diffraction and cathodoluminescence. The tilts of c-axis of ELO GaN using W mask is much smaller than that of ELO GaN using SiO_2 mask. Uniform bound excitonic emission is observed from ELO GaN using W mask. It is found that the quality of ELO GaN using W mask is much better than that of ELO GaN using SiO_2 mask.
キーワード(和) GaN / 選択成長 / 横方向成長(ELO) / タングステン / MOVPE / HVPE / CL
キーワード(英) GaN / selective area growth / epitaxial lateral overgrowth (ELO) / tungsten / MOVPE / HVPE / CL
資料番号 ED99-198
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 1999/10/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) GaNの選択成長及び横方向成長
サブタイトル(和)
タイトル(英) Selective Area Growth and Epitaxial Lateral Overgrowth of GaN
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaN / GaN
キーワード(2)(和/英) 選択成長 / selective area growth
キーワード(3)(和/英) 横方向成長(ELO) / epitaxial lateral overgrowth (ELO)
キーワード(4)(和/英) タングステン / tungsten
キーワード(5)(和/英) MOVPE / MOVPE
キーワード(6)(和/英) HVPE / HVPE
キーワード(7)(和/英) CL / CL
第 1 著者 氏名(和/英) 平松 和政 / Kazumasa Hiramatsu
第 1 著者 所属(和/英) 三重大学工学部電気電子工学科
Department of Electrical and Electronic Engineering, Mie University
発表年月日 1999/10/22
資料番号 ED99-198
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 377
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日