講演名 1999/10/15
AFM微細探針によるレジストパターンの破壊メカニズムの解析
金子 悦久, 森池 教夫, 河合 晃,
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抄録(和) 原子間力顕微鏡(AFM)の微細探針から荷重を加えることにより、微細レジストパターンを選択的に破壊することができる。これにより、KrFレーザー用化学増幅型レジストのパターン付着力を直接かつ定量的に解析する。パターン線幅が730nmから170nmと細くなるに従って破壊荷重は小さくなる。線幅400nm付近で剥離荷重の著しい減少が見られた。AFMによるパターン残渣の観察から線幅290nm以下は残渣の残る凝集破壊、線幅420nm以上は界面破壊であった。さらに、3次元有限要素法解析によりパターン内部の応力分布を解析する。応力集中点は線幅が細くなるに従って、パターン底面より上側に移動した。これが、実験における残渣の発生の原因であると考えられる。
抄録(英) By applying load with atomic force microscope tip, a resist micro pattern can be collapsed easily. The adhesion behavior of KrF chemically amplified resist is analyzed. Applying load for destruction decreases with the line width decreases. The applying load for destruction rapidly decreases at 400nm of the line width. When the pattern less than 400nm was collapsed, a considerable residue of resist material can be observed. On the other hand, slight residue can be observed for wider pattern. Stress distribution in a resist pattern was simulated by three dimensional finite element method. The position of stress concentration is shifted to upper region from pattern bottom as the line width become narrow. Simulation results are in good agreement with experimental results.
キーワード(和) 原子間力顕微鏡 / レジストパターン / 付着力 / 残渣 / 有限要素法解析 / 応力分布 / ULSI
キーワード(英) atomic force microscope / resist pattern / adhesion / residue / finite element method / stress distribution
資料番号 CPM99-98
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 1999/10/15(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) AFM微細探針によるレジストパターンの破壊メカニズムの解析
サブタイトル(和)
タイトル(英) Analysis for Mechanism of Resist Pattern Distraction by Atomic Force Microscope tip
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 原子間力顕微鏡 / atomic force microscope
キーワード(2)(和/英) レジストパターン / resist pattern
キーワード(3)(和/英) 付着力 / adhesion
キーワード(4)(和/英) 残渣 / residue
キーワード(5)(和/英) 有限要素法解析 / finite element method
キーワード(6)(和/英) 応力分布 / stress distribution
キーワード(7)(和/英) ULSI
第 1 著者 氏名(和/英) 金子 悦久 / Yoshihisa Kaneko
第 1 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 森池 教夫 / Norio Moriike
第 2 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 河合 晃 / Akira Kawai
第 3 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
発表年月日 1999/10/15
資料番号 CPM99-98
巻番号(vol) vol.99
号番号(no) 361
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日