| 講演名 | 2000/3/7 基板の粗面化処理による磁壁抗磁力の制御 尾留川 正博, 宮武 範夫, 鈴木 孝雄, |
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| 抄録(和) | 基板の粗面化処理に伴う磁壁抗磁力増加について調べた。CF_4ガスを用いてガラス基板をプラズマエッチングにより、粗面化処理を施した結果、エッチングガス圧を1.7mTorrにすることで、応力の波長を磁壁の幅と同程度である約14nmとすることができ、その結果、基板の面粗さがR_a=0.62nmという僅かなものでありながら、2kOe以上の磁壁移動に対する抗磁力の増加が実現できた。 この技術は、今後さらに高密度化を目指して微小な磁区を記録したときに発生するであろう、『熱揺らぎに基づく磁区の収縮』に対しても有効な改善策と考えられる。 |
| 抄録(英) | The present study describes a wall pinning coercivity enhancement due to roughening a substrate surface by plasma etching using CF_4 gas. Although a roughness amplitude R_a is only 0.62 nm, the coercivity enhancement more than 2kOe is achieved by adjusting a plasma etching condition, because roughness wavelength is comparable to domain wall width. These results are expected for a prevention technique of domain shrinkage due to thermal energy in high-density magneto-optical recording. |
| キーワード(和) | 高密度記録 / 光磁気記録 / 磁壁移動 / ピンイング / 抗磁力 / プラズマエッチング / 基板 |
| キーワード(英) | magneto-optical recording / wall pinning / coercivity / plasma etching / substrate |
| 資料番号 | MR99-94,CPM99-158 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2000/3/7(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 基板の粗面化処理による磁壁抗磁力の制御 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Coercivity Enhancement by Roughening a Substrate Surface |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 高密度記録 / magneto-optical recording |
| キーワード(2)（和/英） | 光磁気記録 / wall pinning |
| キーワード(3)（和/英） | 磁壁移動 / coercivity |
| キーワード(4)（和/英） | ピンイング / plasma etching |
| キーワード(5)（和/英） | 抗磁力 / substrate |
| キーワード(6)（和/英） | プラズマエッチング |
| キーワード(7)（和/英） | 基板 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 尾留川 正博 / Masahiro BIRUKAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 豊田工業大学 情報記録機能材料研究室 Information Storage Materials Laboratory, Toyota Technological Institute |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 宮武 範夫 / Norio MIYATAKE |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 松下電器産業(株) 光ディスク開発センター Optical Disk Systems Development Center, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 鈴木 孝雄 / Takao SUZUKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 豊田工業大学 情報記録機能材料研究室 Information Storage Materials Laboratory, Toyota Technological Institute |
| 発表年月日 | 2000/3/7 |
| 資料番号 | MR99-94,CPM99-158 |
| 巻番号（vol） | vol.99 |
| 号番号（no） | 669 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |