講演名 2005/9/20
Surrounding Gate Transistorにおける量子効果を考慮したC-V特性のウェハ面方位依存性(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
羽田 秀生, 坂本 渉, ペシック イリヤ, 中村 広記, 桜庭 弘, 舛岡 富士雄,
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抄録(和) 本論文では、シリコンウェハ上に円筒形シリコン柱をゲート電極が取り囲むように形成されたSurrounding Gate Transistor (SGT)における電子分布とC-V特性を示している。SGTにおける量子効果を正確に解析するために、我々は有効質量の結晶面方位依存性を考慮した1次元Schrodinger-2次元Poissonの自己無撞着法を用いた。結果として、シリコン柱界面、及びウェハ面方位によってSi-SiO2界面に沿った電子分布、及びC-V特性が変化する事を示すことに成功した。また、SGTの量子効果を考慮したC-V特性のウェハ面方位依存性は、平面型MOSFETの依存性と比較したとき、減少している事も示した。
抄録(英) In this paper, we show the electron distributions and the C-V characteristics for the surrounding gate transistor (SGT). The SGT structure is defined by a cylindrical silicon pillar that is completely surrounded by the gate electrode and is vertically arranged on top of a silicon wafer. In order to correctly analyze the QM effects that occur within the SGT, we have used a self-consistent method of the coupled 1D Schrodinger-2D Poisson system that properly includes effective mass dependency on the crystal orientation. As a result, we have successfully shown that both the QM carrier distribution along the Si-SiO_2 interface and the C-V characteristics will vary with the silicon pillar surface and wafer crystal orientations. We have also shown that the wafer orientation dependence of the QM C-V characteristics for the SGT is reduced when compared to the QM C-V characteristics of the planar MOSFET.
キーワード(和)
キーワード(英) Surrounding Gate Transistor (SGT) / Quantum Mechanical Effects (QMEs)
資料番号 VLD2005-53,SDM2005-172
発行日

研究会情報
研究会 VLD
開催期間 2005/9/20(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 VLSI Design Technologies (VLD)
本文の言語 JPN
タイトル(和) Surrounding Gate Transistorにおける量子効果を考慮したC-V特性のウェハ面方位依存性(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Wafer Orientation Dependence of the C-V Characteristics due to QM Effects for the Surrounding Gate Transistor
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Surrounding Gate Transistor (SGT)
第 1 著者 氏名(和/英) 羽田 秀生 / Hideo HANEDA
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 坂本 渉 / Wataru SAKAMOTO
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) ペシック イリヤ / Iliya I. PESIC
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) 中村 広記 / Hiroki NAKAMURA
第 4 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
第 5 著者 氏名(和/英) 桜庭 弘 / Hiroshi SAKURABA
第 5 著者 所属(和/英) 宮城工業高等専門学校
Miyagi National College of Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 舛岡 富士雄 / Fujio MASUOKA
第 6 著者 所属(和/英) 東北大学電気通信研究所
Research Institute of Electrical Communication, Tohoku University
発表年月日 2005/9/20
資料番号 VLD2005-53,SDM2005-172
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 308
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日