| 講演名 | 2005/7/1 ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展) 本間 敬之, 川治 純, 丹羽 大介, 及川 英幸, 亀尾 亮平, 逢坂 哲彌, |
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| 抄録(和) | パターン媒体への応用を目的とした磁性ナノドットアレイのウェットプロセスによる形成プロセスの検討を行った.電子線リソグラフィーを用いてドットアレイのモールドを形成したSiO_2/Si基板に無電解析出法を用いることにより, ドットパターン内のみに選択的にCoNiP合金を充填した.高密度媒体の実現には小径ドットパターンへの均一な磁性金属析出が求められるが, 無電解析出前の基板に適切な触媒活性化プロセスを適用することにより, 均一なCoNiP磁性ドットアレイが析出可能なことを見出した.また, 形成された磁性ドットからの磁気信号を磁気力顕微鏡により検出した.さらに, 磁性ドットの高磁気異方性化を目的として, 電解析出法によるhcp-CoPt合金ドットアレイの作製を試みた.電解析出条件の調整によりCoPt合金組成を最適化することで, 均一なCoPtドットアレイの作製が可能となった.一方, パターン媒体のモールドとなるSiO_2/Siドットパターンの小径化, 高密度化のための電子線リソグラフィープロセスの開発についても検討を行った.nmスケールのSiO_2/Si基板を作製するために, 厚さ2nmの有機シラン単分子膜を超高解像電子線描画レジストとして用い, ウェットエッチングによるパターン転写との組み合わせにより20nm径のドットパターンの形成を達成した.今後, 各要素の更なる高度化およびそれらの複合化により, パターン媒体用磁性ナノドットアレイの形成手法の確立が期待される. |
| 抄録(英) | Magnetic nanodot arrays for patterned recording media were prepared by using wet processes. CoNiP magnetic alloy was successfully deposited into the patterned pore on the Si substrate with SiO_2 mold by using electroless deposition. Uniform formation of fine CoNiP dot arrays was achieved by application of activation process prior to the electroless deposition. Futhermore, the magnetic signal was detected from the dots using magnetic force microscopy (MFM). In addition to the electroless deposition process, electrodeposited hcp-CoPt alloy was applied as dot materials because of its high magnetic anisotropy energy. Optimization of electrodeposition condition for CoPt, which strongly affected the alloy composition, enabled to obtain uniform CoPt dot arrays on SiO_2/Si substrate. On the other hand, novel electron beam lithography process was developed for further high-resolution patterning for fabricating nm scale dot patterns. Combination process of electron beam lithography for organosilane self-assembled monolayer modified surface and pattern transfer by wet chemical etching resulted in the fabrication of dot pattern with as small as 20nm in diameter. These processes for metal deposition and nano-pattering are promising candidates for the fabrication of patterned media. |
| キーワード(和) | パターン媒体 / ドットアレイ / 電解析出法 / 無電解析出法 / 電子線リソグラフィー / 自己組織化有機単分子膜 |
| キーワード(英) | Patterned Media / Magnetic Dot Arrays / Electrodeposition / Electroless Deposition / Electron Beam Lithography / Self-Assembled Monolayer |
| 資料番号 | MR2005-21 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2005/7/1(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ウェットプロセスによる磁性ナノドットパターン膜形成の試み(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of magnetic nanodot arrays for patterned media using wet processes |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | パターン媒体 / Patterned Media |
| キーワード(2)（和/英） | ドットアレイ / Magnetic Dot Arrays |
| キーワード(3)（和/英） | 電解析出法 / Electrodeposition |
| キーワード(4)（和/英） | 無電解析出法 / Electroless Deposition |
| キーワード(5)（和/英） | 電子線リソグラフィー / Electron Beam Lithography |
| キーワード(6)（和/英） | 自己組織化有機単分子膜 / Self-Assembled Monolayer |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 本間 敬之 / Takayuki HOMMA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 川治 純 / Jun KAWAJI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 丹羽 大介 / Daisuke NIWA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 及川 英幸 / Hideyuki OIKAWA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 亀尾 亮平 / Ryohei KAMEO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 逢坂 哲彌 / Tetsuya OSAKA |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 早稲田大学理工学部 School of Science and Engineering, Waseda University |
| 発表年月日 | 2005/7/1 |
| 資料番号 | MR2005-21 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 167 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |