| 講演名 | 2005/7/1 CoPt/Ruパターンド膜の磁化機構と熱安定性(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展) 島津 武仁, 三塚 要, 村岡 裕明, /, |
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| 抄録(和) | CoPt/Ruパターンド膜(膜厚20nm、ドット直径D=80～245nm)をレーザー干渉法により作成し、磁化機構とパターン媒体への応用について議論した。Dの低下にともないドットの残留保磁力は増加し、7.6kOe(D=80nm)に達した。D=140, 245nmの各ドットのニュークリエーション径は30nm程度と推定され、ドット体積の約5%以下であるが、MFM観察の結果ではドット径に依らずドットは全て単磁区であった。ドット中央部に磁化回転によるニュークリエーションが生じ、瞬時にドット全体に反転が広がっているものと推察された。スイッチング磁界分散SFDは、ドット径の低下にともない単調に低下した。SFDの大きさはc軸の角度分散とドット径分散に関係していると考えられるが、SFDの膜厚依存性についてはさらなる検討が必要である。 |
| 抄録(英) | Dot arrays with diameter D=80-245nm are made of Co_<80>Pt_<20> (20nm) films with a large perpendicular anisotropy energy. Coercive force increases as the D decrease, and shows 7.6kOe at D=80nm. The switching volume for the array of D=140nm dots was estimated to be about 1.6×10^4nm^3, which was only about 5% of the dot volume. However, the MFM images revealed that all dots show single domain state during the magnetization reversal. It is likely that the reversal process starts from a nucleation at the center of the dot followed by propagation process. Moreover, the change in the switching field distribution as a function of D was discussed. |
| キーワード(和) | CoPt膜 / パターンド媒体 / ドット / 磁化機構 / 一軸磁気異方性 / 保磁力 / 保磁力分散 |
| キーワード(英) | CoPt films / patterned films / dot arrays / magnetization reversal mechanism / uniaxial anisotropy / coercive force / switching field distribution |
| 資料番号 | MR2005-20 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2005/7/1(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | CoPt/Ruパターンド膜の磁化機構と熱安定性(高密度記録媒体の開発とその関連技術の進展) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Magnetization Reversal and Thermal Stability of CoPt/Ru Patterned Films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | CoPt膜 / CoPt films |
| キーワード(2)（和/英） | パターンド媒体 / patterned films |
| キーワード(3)（和/英） | ドット / dot arrays |
| キーワード(4)（和/英） | 磁化機構 / magnetization reversal mechanism |
| キーワード(5)（和/英） | 一軸磁気異方性 / uniaxial anisotropy |
| キーワード(6)（和/英） | 保磁力 / coercive force |
| キーワード(7)（和/英） | 保磁力分散 / switching field distribution |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 島津 武仁 / Takehito SHIMATSU |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東北大学電気通信研究所 RIEC, Tohoku University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 三塚 要 / Kaname MITSUZUKA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東北大学電気通信研究所 RIEC, Tohoku University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 村岡 裕明 / Hiroaki MURAOKA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東北大学電気通信研究所 RIEC, Tohoku University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | / / Nobuaki KIKUCHI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | / SMI, MESA+, University of Twente |
| 発表年月日 | 2005/7/1 |
| 資料番号 | MR2005-20 |
| 巻番号（vol） | vol.105 |
| 号番号（no） | 167 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |