講演名 2005-09-09
Measurement of Inner-chip Variation and Signal Integrity By a 90-nm Large-scale TEG
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抄録(和)
抄録(英) We have developed the world first measurement methodology of both inner chip variation and SI(signal integrity) in a same 90nm large scale TEG(Test Element Group).
キーワード(和)
キーワード(英) Inner chip variation / Signal Integrity / 90nm / Large scale TEG
資料番号 CPM2005-103,ICD2005-113
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2005/9/2(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Measurement of Inner-chip Variation and Signal Integrity By a 90-nm Large-scale TEG
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Inner chip variation
第 1 著者 氏名(和/英) / Masaharu Yamamoto
第 1 著者 所属(和/英)
Semiconductor Technology Academic Research Center (STARC)
発表年月日 2005-09-09
資料番号 CPM2005-103,ICD2005-113
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 266
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日