講演名 2004/1/22
モニタポートを用いた多段リング共振器型可変分散補償器の特性調整方法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
高橋 英憲, 服部 雅晴, 久光 隆文, 西村 公佐, 宇佐見 正士,
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抄録(和) 分散補償技術はWDM光伝送において重要な技術の一つである.特に将来の動的ルーティングを行う全光ネットワークにおいて各チャンネルの累積分散量の補償には可変分散補償デバイスが必要であると予想される.石英光導波路によるオールパスリング共振器型可変分散補償デバイスは小型化・集積化の点から優れた特性を有しており,活発に研究が進められている.本方式は複数のリング共振器を同時に最適制御することが必須であるため複雑な制御法が必要である.本報告ではモニタポートを備えたデバイス構成によりリング共振器を個々に制御する簡略な制御法を提案し,動作確認を行った.
抄録(英) Chromatic dispersion (CD) compensation is one of the key technologies in WDM optical communication systems. Especially, in reconfigurable all-photonic transparent networks in future photonic networks, tunable CD compensators (TCDCs) are indispensable. An all-pass ring resonator not only has a good tunability of CD, but also has structural advantages of compactness and integabilty. However, the all-pass multi ring resonator has to control several phase parameters at the same time. In this report, the easy controlling method of ring resonators utilizing monitor ports individually was proposed and demonstrated.
キーワード(和) 可変分散補償器 / リング共振器 / 光導波路
キーワード(英) Tunable dispersion compensator / Ring resonator / Optical waveguide
資料番号 PN2003-65,OFT2003-87,OPE2003-244,LQE2003-181
発行日

研究会情報
研究会 PN
開催期間 2004/1/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Photonic Network (PN)
本文の言語 JPN
タイトル(和) モニタポートを用いた多段リング共振器型可変分散補償器の特性調整方法(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Control method of tunable dispersion compensator of cascaded ring resonators utilizing monitor ports
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 可変分散補償器 / Tunable dispersion compensator
キーワード(2)(和/英) リング共振器 / Ring resonator
キーワード(3)(和/英) 光導波路 / Optical waveguide
第 1 著者 氏名(和/英) 高橋 英憲 / Hidenori TAKAHASHI
第 1 著者 所属(和/英) (株)KDDI研究所
KDDI R&D Laboratories Inc.
第 2 著者 氏名(和/英) 服部 雅晴 / Masaharu HATTORI
第 2 著者 所属(和/英) (株)KDDI研究所
KDDI R&D Laboratories Inc.
第 3 著者 氏名(和/英) 久光 隆文 / Takafumi HISAMITSU
第 3 著者 所属(和/英) (株)KDDI研究所
KDDI R&D Laboratories Inc.
第 4 著者 氏名(和/英) 西村 公佐 / Kohsuke NISHIMURA
第 4 著者 所属(和/英) (株)KDDI研究所
KDDI R&D Laboratories Inc.
第 5 著者 氏名(和/英) 宇佐見 正士 / Masashi USAMI
第 5 著者 所属(和/英) (株)KDDI研究所
KDDI R&D Laboratories Inc.
発表年月日 2004/1/22
資料番号 PN2003-65,OFT2003-87,OPE2003-244,LQE2003-181
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 611
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
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