| 講演名 | 2005-01-27 フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般) 深町 俊彦, 細見 和彦, 山田 宏治, 勝山 俊夫, 荒川 泰彦, |
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| 抄録(和) | 結合欠陥型フォトニック結晶を中心に、SiO_2とTa_2O_5からなる積層薄膜型一次元構造について検討した。その結果、欠陥状態の制御を行うことにより、特定の波長域で平坦な高い透過率の窓が存在することと、その波長域で遅延時間波長特性が滑らかな曲線からなっており、かつ大きな遅延時間差が得られることが示された。この結果は、比較的大きな群速度分散が得られることに対応する。また、光伝送シミュレーションの結果、40GbpsNRZ光信号の波形修復が十分可能であることが分かり、光通信用分散補償素子として応用可能であることが示された。 |
| 抄録(英) | Coupled-defect-type photonic crystals (PhCs) were studied. One-dimensional film-type PhCs composed of SiO_2 and Ta_2O_5 showed following features by optimizing their structures. 1) The structure has a transparent window with high and flat transmittance. 2) The delay time spectrum has a smoothed shape and a large delay time difference within the window, which results in a large group delay dispersion. Furthermore, The deterioration of 40Gbps NRZ light signal can be compensated by using these PhCs, which leads to the realization of the dispersion compensators. |
| キーワード(和) | フォトニック結晶 / 結合欠陥 / 群速度分散 / 光通信用分散補償素子 |
| キーワード(英) | Photonic crystals / Coupled defects / Group delay dispersion / Dispersion compensators |
| 資料番号 | PN2004-93,OFT2004-99,OPE2004-200,LQE2004-147 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OFT |
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| 開催期間 | 2005/1/20(から1日開催) |
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| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Optical Fiber Technology (OFT) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | フォトニック結晶を用いた分散補償素子の作製検討(光集積回路/素子, スイッチング, PLC, ファイバ型デバイス, 導波路解析, 一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Towards the realization of dispersion compensators using photonic crystals |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フォトニック結晶 / Photonic crystals |
| キーワード(2)（和/英） | 結合欠陥 / Coupled defects |
| キーワード(3)（和/英） | 群速度分散 / Group delay dispersion |
| キーワード(4)（和/英） | 光通信用分散補償素子 / Dispersion compensators |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 深町 俊彦 / Toshihiko FUKAMACHI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所 NCRC, IIS, University of Tokyo:OITDA Sumitomo Edogawabashiekimae Bldg.:Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 細見 和彦 / Kazuhiko HOSOMI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会:日立製作所中央研究所 NCRC, IIS, University of Tokyo:OITDA Sumitomo Edogawabashiekimae Bldg.:Central Research Laboratory, Hitachi, Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 山田 宏治 / Hiroji YAMADA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター NCRC, IIS, University of Tokyo |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 勝山 俊夫 / Toshio KATSUYAMA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター:財団法人光産業技術振興協会 NCRC, IIS, University of Tokyo:OITDA Sumitomo Edogawabashiekimae Bldg. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 荒川 泰彦 / Yasuhiko ARAKAWA |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 東京大学生産技術研究所ナノエレクトロニクス連携研究センター NCRC, IIS, University of Tokyo |
| 発表年月日 | 2005-01-27 |
| 資料番号 | PN2004-93,OFT2004-99,OPE2004-200,LQE2004-147 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 604 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |