講演名 2004/10/14
MBE成長遷移金属及び希土類元素添加GaNの諸特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
周 逸凱, 金 武成, 木村 重哉, 崔 誠佑, 江村 修一, 長谷川 繁彦, 朝日 一,
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抄録(和) 分子線エピタキシー法を用いて成長したCF、Mn、Gd、Dyの遷移金属及び希土類元素添加のGaNに対し、それらの光学、磁気特性などを研究した。遷移金属添加のGaNでは,GaCrNの方がGaMnNよりも良好な特性であり、強磁性転移温度は400K以上である。しかも,GaCrNから強力なフォトルミネセンス(PL)発光も観測され、光る高温強磁性半導体とも言える。希土類元素Gd及びDy添加のGaNにおいては、f電子の内殻遷移による発光が観察されたと同時に、GaGdNを始めとする試料からは室温以上の強磁性成分が観察された。本研究では、初めて、GaCrN/GaN/GaCrN三層構造を作製し、その磁気抵抗効果を確認した。
抄録(英) We have studied magnetic and optical properties of transition-metal (Cr, Mn) and rare-earth (Gd, Dy) doped GaN grown by radio frequency molecular beam epitaxy (RF-MBE). GaCrN showed the ferromagnetic characteristics at 7-400K. We observed the PL emission from GaCrN layers. GaGdN also showed the ferromagnetic characteristics at 7-400K. Sharp PL emission was observed for GaGdN due to the intra-atomic f-f-transitions. GaCrN-based ferromagnet /nonmagnet/ ferromagnet trilayer structures were grown, for the first time, by radio frequency molecular beam epitaxy, in which the magnetoresistive effect was confirmed.
キーワード(和) 希薄磁性半導体 / GaNベースの磁性半導体 / GaMnN / GaCrN / GaGdN / GaDyN
キーワード(英) Diluted magnetic semiconductor / GaN-based semiconductor / GaMnN / GaCrN / GaGdN / GaDyN
資料番号 ED2004-127,CPM2004-101,LQE2004-65
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2004/10/14(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MBE成長遷移金属及び希土類元素添加GaNの諸特性(化合物混晶半導体デバイス・材料(含むSiGe,ワイドギャップ半導体),一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Physical properties of transition metal and rare earth element doped GaN grown by MBE
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 希薄磁性半導体 / Diluted magnetic semiconductor
キーワード(2)(和/英) GaNベースの磁性半導体 / GaN-based semiconductor
キーワード(3)(和/英) GaMnN / GaMnN
キーワード(4)(和/英) GaCrN / GaCrN
キーワード(5)(和/英) GaGdN / GaGdN
キーワード(6)(和/英) GaDyN / GaDyN
第 1 著者 氏名(和/英) 周 逸凱 / Y.K. Zhou
第 1 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 2 著者 氏名(和/英) 金 武成 / M.S. Kim
第 2 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 3 著者 氏名(和/英) 木村 重哉 / S. Kimura
第 3 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 4 著者 氏名(和/英) 崔 誠佑 / S.W. Choi
第 4 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 5 著者 氏名(和/英) 江村 修一 / S. Emura
第 5 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 6 著者 氏名(和/英) 長谷川 繁彦 / S. Hasegawa
第 6 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
第 7 著者 氏名(和/英) 朝日 一 / H. Asahi
第 7 著者 所属(和/英) 大阪大学産業科学研究所
The Institute of Scientific and Industrial Research, Osaka University
発表年月日 2004/10/14
資料番号 ED2004-127,CPM2004-101,LQE2004-65
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 361
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日