講演名 2004/10/22
遠紫外PESA法による有機EL材料の電子状態測定(分子薄膜デバイス・一般)
中島 嘉之, 山下 大輔, 安達 千波矢, 遠藤 ネL隆, 小山田 崇人, 宇田 応之,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 遠紫外照射光学系付きオープンカウンターを開発し、遠紫外大気中光電子分光法を行った。この装置は、7.00eVまでのエネルギーを持つフォトンで励起され、試料表面から放出された外殻電子を大気中で1つ1つ検出して計数することができる。この装置の性能を試すために、Hexaphenylcyclotrisiloxane (DPSiO_3)のイオン化ポテンシャルを測定したところ6.49eVであった。また、poly (9,9-dioctylfluorence) (F8)の状態密度を測定した。
抄録(英) A far ultraviolet photoelectron spectrometer equipped with the open counter was prepared, which can detect, in open-air, outer-orbital electrons excited by photons with energies up to 7.0 eV. Several OLED materials were employed to confirm performance of the spectrometer. The ionization potential of Hexaphenylcyclotrisiloxane (DPSiO3) is estimated to be 6.49eV. The near edge structure of poly (9,9-dioctylfluorence) (F8) was investigated by the spectrometer successfully.
キーワード(和) 大気中光電子分光 / イオン化ポテンシャル / 状態密度 / Hexaphenylcyclotrisiloxane / poly (9,9-dioctylfluorence)
キーワード(英) photo-electron spectroscopy in air / ionization potential / density of states / Hexaphenylcyclotrisiloxane / poly (9 9-dioctylfluorence)
資料番号 OME2004-84
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2004/10/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 遠紫外PESA法による有機EL材料の電子状態測定(分子薄膜デバイス・一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Application of "Far Ultraviolet Photo-electron Spectroscopy in Air" to the OLED materials
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 大気中光電子分光 / photo-electron spectroscopy in air
キーワード(2)(和/英) イオン化ポテンシャル / ionization potential
キーワード(3)(和/英) 状態密度 / density of states
キーワード(4)(和/英) Hexaphenylcyclotrisiloxane / Hexaphenylcyclotrisiloxane
キーワード(5)(和/英) poly (9,9-dioctylfluorence) / poly (9 9-dioctylfluorence)
第 1 著者 氏名(和/英) 中島 嘉之 / Y. Nakajima
第 1 著者 所属(和/英) 理研計器株式会社研究部
Riken Keiki Co., Ltd., Research dept.
第 2 著者 氏名(和/英) 山下 大輔 / D. Yamashita
第 2 著者 所属(和/英) 理研計器株式会社研究部
Riken Keiki Co., Ltd., Research dept.
第 3 著者 氏名(和/英) 安達 千波矢 / C. Adachi
第 3 著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学光科学部
Dept. of Photonics Materials Science, Chitose Institute of Science & Technology (CIST)
第 4 著者 氏名(和/英) 遠藤 ネL隆 / A. Endo
第 4 著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学光科学部
Dept. of Photonics Materials Science, Chitose Institute of Science & Technology (CIST)
第 5 著者 氏名(和/英) 小山田 崇人 / T. Oyamada
第 5 著者 所属(和/英) 千歳科学技術大学光科学部
Dept. of Photonics Materials Science, Chitose Institute of Science & Technology (CIST)
第 6 著者 氏名(和/英) 宇田 応之 / M. Uda
第 6 著者 所属(和/英) 早稲田大学工学部
Dept. of Materials Science and Engineering, Waseda Univ.
発表年月日 2004/10/22
資料番号 OME2004-84
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 394
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日