講演名 2004/10/1
フェムト秒レーザリソグラフィによる光導波路の形成(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
柴田 慎弥, 杉原 興浩, 戒能 俊邦, / /,
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抄録(和) フェムト秒レーザは、従来のナノ秒レーザと比較して、照射部位周辺が熱的、化学的に損傷をほとんど受けないため、レンズで集光することで2光子反応を誘起し、立体内部への微細加工が可能になる。本研究では、2光子励起重合による2次元周期構造の作製と2光子反応面積の制御、ならびに光導波路構造の形成について検討した。4種類の2光子色素と、UV硬化剤として2種類のアクリル系モノマ- (Desobond 105及び9D9-464)を用いた。色素濃度を2.5~0.25[wt%]まで変化させたところ、全ての濃度において重合体を確認した。そこで、0.25[wt%]の色素ドープPMMA厚膜フィルムを形成し、内部に描画を行った。描画強度、スキャン速度を変化させることで得られる断面蛍光変化を観測したところ、得られた結果は楕円形伏を取っており、これより適切なライン間隔と描画回数を与えることで、対称型構造が形成可能であった。そこで4.8×4.3μm^2サイズの描画により光導波路を形成し、1300nm光の入射により出射面より光の導波を確認した。
抄録(英) fs-laser lithography has various advantages such as high resolution and three-dimensional structure hi a transparent material by two- or multi-photon absorption reaction. In this work, we considered about the fabrication of rating structures, controlling of two photon reaction area and formation of optical waveguide structure in polymer films. Four kinds of two-photon dye and two kinds of UV curable acrylate type monomer, Desobond 105 and 9D9-464 were used. The polymerized grating structures were observed in every dye with a variety of concentration (2.5~0.25wt%). The dye doped PMMA thick film was formed, and a cross-sectional fluorescence change was observed by confocal microscope. The fluorescence took an ellipsoidal form, but the symmetrical structure could be fabricated by giving the suitable line interval and the number of times. And then, the 4.8x4.3um2 size straight-line structure was fabricated and by confirming the near field pattern of the coupled light (1300nm) from the cross section, an optical waveguide was obtained.
キーワード(和) フェムト秒レーザ / 2光子反応 / レーザリソグラフィ / 光導波路
キーワード(英) fs-laser / two photon absorption / Laser Lithography / Optical Waveguide
資料番号 OME2004-83,OPE2004-146
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2004/10/1(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) フェムト秒レーザリソグラフィによる光導波路の形成(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Fabrication of optical waveguide structure by fs-laser lithography
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) フェムト秒レーザ / fs-laser
キーワード(2)(和/英) 2光子反応 / two photon absorption
キーワード(3)(和/英) レーザリソグラフィ / Laser Lithography
キーワード(4)(和/英) 光導波路 / Optical Waveguide
第 1 著者 氏名(和/英) 柴田 慎弥 / Shinya SHIBATA
第 1 著者 所属(和/英) 東北大学多元物質科学研究所
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
第 2 著者 氏名(和/英) 杉原 興浩 / Okihiro SUGIHARA
第 2 著者 所属(和/英) 東北大学多元物質科学研究所
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
第 3 著者 氏名(和/英) 戒能 俊邦 / Toshikuni KAINO
第 3 著者 所属(和/英) 東北大学多元物質科学研究所
Institute of Multidisciplinary Research for Advanced Materials, Tohoku University
第 4 著者 氏名(和/英) / / / Haridas E. Pudavar
第 4 著者 所属(和/英) / /
Institute for Lasers, Photonics & BioPhotonics, State University of New York at Buffalo
発表年月日 2004/10/1
資料番号 OME2004-83,OPE2004-146
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 332
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日