講演名 2005/6/23
A Compact Modeling of Threshold Voltage Shift by a Quantum Confinement Effect in UTB MOSFET(Quantum Devices)
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抄録(和)
抄録(英) A compact modeling of threshold voltage shift by a quantum confinement effect in ultra-thin body (UTB) MOSFET is studied theoretically. As a body thickness of UTB MOSFET reduces into the nano-scale regime, the threshold voltage shift by the quantum confinement effect becomes a big concern. The threshold voltage shift as a function of the body thickness (T_) is modeled analytically using perturbation theory for two types of potential well shape: linear and quadratic. Calculated data from the analytical model show a good agreement to the measured data from the fabricated UTB MOSFET in the range of body thickness from 4nm to 8nm.
キーワード(和)
キーワード(英) compact modeling / quantum confinement effect / threshold voltage shift / ultra-thin body (UTB) MOSFET / perturbation / quantum well
資料番号 ED2005-107,SDM2005-127
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2005/6/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) A Compact Modeling of Threshold Voltage Shift by a Quantum Confinement Effect in UTB MOSFET(Quantum Devices)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / compact modeling
第 1 著者 氏名(和/英) / Cheon Hak Ku
第 1 著者 所属(和/英)
Dept. of EECS, Korea Advanced Institute of Science and Technology
発表年月日 2005/6/23
資料番号 ED2005-107,SDM2005-127
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 157
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日