| 講演名 | 2005/1/24 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術 宮島 秀史, 渡邉 桂, 藤田 敬次, 伊藤 祥代, 田渕 清隆, 島山 努, 秋山 和隆, 蜂谷 貴世, 東 和幸, 中村 直文, 梶田 明広, 松永 範昭, 榎本 容幸, 金村 龍一, 猪原 正弘, 本多 健二, 上條 浩幸, 中田 錬平, 矢野 博之, 早坂 伸夫, 長谷川 利昭, 門村 新吾, 柴田 英毅, 依田 孝, |
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| 抄録(和) | 高い信頼性を有するlow-k/Cu多層配線技術を実現するために、130、90、65nm世代に対してそれぞれ最適化した配線構造を開発した.65nm世代に対しては、従来の単一のlow-k材料によるデュアルダマシン(DD)構造に代わり、新たに開発したPAr/SiOC積層膜を利用したハイブリッドDD構造を採用した.ハイブリッド技術は電子線キュアやダメージ修復などの新規技術を併用することにより、次世代に対しての高い拡張性を有している. |
| 抄録(英) | In order to realize highly reliable low-k / Cu interconnects, optimum BEOL structures were developed for 130, 90 and 65 node logic devices respectively. For 65nm node BEOL structure, the conventional monolithic dual damascene (DD) structure was replaced by the hybrid-DD structure with PAr / SiOC stack films. It shows high extendibility to the next generation using newly developed technologies, such as eBeam cure and damage restoration techniques. |
| キーワード(和) | 低誘電率 / 層間絶縁膜 / 多層配線 / デュアルダマシン / ハイブリッド |
| キーワード(英) | low-k / ILD / BEOL / dual damascene / hybrid |
| 資料番号 | SDM2004-247 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2005/1/24(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 130, 90, 65nm及びそれ以降の多層配線技術におけるlow-k絶縁膜技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Challenge of low-k materials for 130, 90, 65nm node interconnect technology and beyond |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 低誘電率 / low-k |
| キーワード(2)（和/英） | 層間絶縁膜 / ILD |
| キーワード(3)（和/英） | 多層配線 / BEOL |
| キーワード(4)（和/英） | デュアルダマシン / dual damascene |
| キーワード(5)（和/英） | ハイブリッド / hybrid |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮島 秀史 / H. Miyajima |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 渡邉 桂 / K. Watanabe |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 藤田 敬次 / K. Fujita |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 伊藤 祥代 / S. Ito |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 田渕 清隆 / K. Tabuchi |
| 第 5 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 島山 努 / T. Shimayama |
| 第 6 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 秋山 和隆 / K. Akiyama |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 蜂谷 貴世 / T. Hachiya |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 9 著者 氏名（和/英） | 東 和幸 / K. Higashi |
| 第 9 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 10 著者 氏名（和/英） | 中村 直文 / N. Nakamura |
| 第 10 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 11 著者 氏名（和/英） | 梶田 明広 / A. Kajita |
| 第 11 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 12 著者 氏名（和/英） | 松永 範昭 / N. Matsunaga |
| 第 12 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 13 著者 氏名（和/英） | 榎本 容幸 / Y. Enomoto |
| 第 13 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 14 著者 氏名（和/英） | 金村 龍一 / R. Kanamura |
| 第 14 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 15 著者 氏名（和/英） | 猪原 正弘 / M. Inohara |
| 第 15 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 16 著者 氏名（和/英） | 本多 健二 / K. Honda |
| 第 16 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 17 著者 氏名（和/英） | 上條 浩幸 / H. Kamijo |
| 第 17 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 18 著者 氏名（和/英） | 中田 錬平 / R. Nakata |
| 第 18 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 19 著者 氏名（和/英） | 矢野 博之 / H. Yano |
| 第 19 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 20 著者 氏名（和/英） | 早坂 伸夫 / N. Hayasaka |
| 第 20 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 21 著者 氏名（和/英） | 長谷川 利昭 / T. Hasegawa |
| 第 21 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 22 著者 氏名（和/英） | 門村 新吾 / S. Kadomura |
| 第 22 著者 所属（和/英） | ソニーセミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー Semiconductor Solutions Network Company, Sony Corporation |
| 第 23 著者 氏名（和/英） | 柴田 英毅 / H. Shibata |
| 第 23 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 第 24 著者 氏名（和/英） | 依田 孝 / T. Yoda |
| 第 24 著者 所属（和/英） | 東芝セミコンダクターカンパニー Semiconductor Company, Toshiba Corporation |
| 発表年月日 | 2005/1/24 |
| 資料番号 | SDM2004-247 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 645 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
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