| 講演名 | 2005-01-17 60MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般) 平島 隆洋, 藤井 亮一, 藤井 修逸, 田中 聡, |
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| 抄録(和) | 筆者らは, 半導体製造用高周波電源の出力評価に利用される13.56MHz帯マイクロストリップ疎結合方向性結合器を提案してきた. 本方向性結合器は, 結合部分の線路長が約1/250波長と非常に小型で, かつ40dB以上の大きな方向性を有している. 今回は, 近年多く利用されるようになってきた60MHz帯半導体製造用高周波電源に対応したマイクロストリップ疎結合方向性結合器を設計・製作したので報告する. 試作器は, 結合度43.0dBのときに, リターンロス35.1dB, インサーションロス0.0072dB, 方向性38.6dBという良好な結果を得ている. |
| 抄録(英) | We proposed the 13.56 MHz band microstrip directional coupler used for the power measurement of the RF plasma generator for the semiconductor manufactured. The part of coupling section is compact size of about 1/250 wavelength, and this coupler has a high directivity of over 40 dB. In this report, a microstrip directional coupler corresponding to the 60 MHz band generator which comes to be used well recently. This coupler attains the good result of a return loss of 35.1 dB, an insertion loss of 0.0072 dB, a directivity of 38.6 dB at 43.0 dB coupled. |
| キーワード(和) | RF帯方向性結合器 / 疎結合 / エッジ結合マイクロストリップ線路 |
| キーワード(英) | RF Directional Coupler / Loosely-Coupled / Edge-Coupled Microstrip Line |
| 資料番号 | ED2004-208,MW2004-215 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MW |
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| 開催期間 | 2005/1/10(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Microwaves (MW) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 60MHz帯疎結合マイクロストリップ方向性結合器(超高速・超高周波デバイス及びIC/一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | 60-MHz-Band Loosely-Coupled Microstrip Directional Coupler |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | RF帯方向性結合器 / RF Directional Coupler |
| キーワード(2)（和/英） | 疎結合 / Loosely-Coupled |
| キーワード(3)（和/英） | エッジ結合マイクロストリップ線路 / Edge-Coupled Microstrip Line |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 平島 隆洋 / Takahiro HIRASHIMA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 中国職業能力開発大学校 Chugoku Polytechnic College |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 藤井 亮一 / Ryoichi FUJII |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 中国職業能力開発大学校附属福山職業能力開発短期大学校 Fukuyama Polytechnic College |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 藤井 修逸 / Shuitsu FUJII |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 株式会社アドテックプラズマテクノロジー ADTEC Plasma Technology Co., Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 田中 聡 / Satoshi TANAKA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 福山大学工学部 Faculty of Engineering, Fukuyama University |
| 発表年月日 | 2005-01-17 |
| 資料番号 | ED2004-208,MW2004-215 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 551 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |