講演名 2005/5/19
リモートプラズマMOCVD法によるMg_xZn_<1-x>O薄膜成長と光学特性評価(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
山本 兼司, 中村 篤志, 石原 純二, 青木 徹, 天明 二郎,
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抄録(和) リモートプラズマ励起MOCVD(RPE-MOCVD)法を用い、a面サファイア(11-20)基板上にMg_xZn_<1-x>O薄膜を成長した。II族原料にDEZnとEtCp_2Mgを用い、II族原料流量比を操作させることでMg_xZn_<1-x>O薄膜のMg組成を変化させた。VI族原料には酸素中性ラジカルを用いた。Mg組成の定量はEPMAおよび原子吸光分析によって行い、Mg_xZn<1-x>Oの分光透過率およびPLを測定し、光学特性評価を行った。Mg組成の増加によりバンドギャップが増大し、バッファ層無しでウルツ鉱構造Mg_xZn<1-x>Oのバンドギャップを3.28eVから3.69eVの範囲で制御できることが分かった。また、Mg組成とストークスシフトの関係を明らかにした。
抄録(英) Mg_xZn_<1-x>O alloy thin films were grown on a-plane sapphire (11-20) substrate by remote plasma enhanced MOCVD (RPE-MOCVD). Diethyl zinc (DEZn) and bis-ethylcyclopentadinienyl magnesium (EtCp_2Mg) were used as group-II sources, and Mg content x in Mg_xZn_<1-x>O films was controlled by varying flow ratio of group-II sources. Oxygen radicals were used as group-VI source. The Mg content x was determined by electron probe microanalysis (EPMA) and atomic absorption spectrometry (AAS). The optical properties of Mg_xZn_<1-x>O films were investigated by transmittance and photoluminescence measurements. The bandgap of Mg_xZn_<1-x>O films depends on the Mg content. The bandgap energy were changed from 3.28eV to 3.69eV on the Mg_xZn_<1-x>O films without buffer ZnO layer. The relation between Mg content x and Stokes' shift was discussed.
キーワード(和) リモートプラズマ励起MOCVD (RPE-MOCVD) / ストークスシフト
キーワード(英) Mg_xZn_<1-x>O / remote plasma enhanced MOCVD (RPE-MOCVD) / DEZn / EtCp_2Mg / Stokes' shift
資料番号 ED2005-26,CPM2005-18,SDM2005-26
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2005/5/19(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) リモートプラズマMOCVD法によるMg_xZn_<1-x>O薄膜成長と光学特性評価(結晶成長, 評価技術及びデバイス(化合物, Si, SiGe, その他電子材料))
サブタイトル(和)
タイトル(英) Growth and optical property of Mg_xZn_<1-x>O alloy films by remote plasma MOCVD
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) リモートプラズマ励起MOCVD (RPE-MOCVD) / Mg_xZn_<1-x>O
キーワード(2)(和/英) ストークスシフト / remote plasma enhanced MOCVD (RPE-MOCVD)
第 1 著者 氏名(和/英) 山本 兼司 / Kenji YAMAMOTO
第 1 著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
第 2 著者 氏名(和/英) 中村 篤志 / Atsushi NAKAMURA
第 2 著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
第 3 著者 氏名(和/英) 石原 純二 / Junji ISHIHARA
第 3 著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
第 4 著者 氏名(和/英) 青木 徹 / Toru AOKI
第 4 著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
第 5 著者 氏名(和/英) 天明 二郎 / Jiro TEMMYO
第 5 著者 所属(和/英) 静岡大学電子工学研究所
Research Institute of Electronics, Shizuoka University
発表年月日 2005/5/19
資料番号 ED2005-26,CPM2005-18,SDM2005-26
巻番号(vol) vol.105
号番号(no) 91
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
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