講演名 | 2005-01-27 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般) 酒井 哲哉, 二川 清, |
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抄録(和) | 我々は走査レーザSQUID顕微鏡のLSI検査・故障解析への適用にむけ研究、開発を行っている。今回まずロジック回路評価用TEG試料複数個に対して、走査レーザSQUID顕微鏡による観測を行った。その結果、同一観測条件ではそれらの試料で磁場強度像、磁場位相像の再現性が確認された。次に再現性が確認された試料に対して、集束イオンビーム(FIB)装置を用いて断線箇所の作りこみを実施した。断線箇所を作りこんだ試料に対し走査レーザSQUID顕微鏡観測を行った。その結果、従来困難であると考えられてきた走査レーザSQUID顕微鏡による観測のみで、試料内の断線箇所を絞り込める場合があることを確認できた。 |
抄録(英) | We have been improving and evaluating this system. In this meeting, we report observation results of completed LSI after building-in defect using laser-SQUID microscopy. First, we took magnetic intensity and phase images from same kind of samples without building-in defects in same experimental condition. We got similar images from each samples. Secondary, we observed a sample that was made open-circuit by focused ion beam (FIB). Magnetic intensity image showed strong contrast at positions of built-in defects. The phase at opposite sides of built-in defects showed about 180-degree change. These results shows we can directly localize open interconnects using the scanning laser-SQUID microscope. |
キーワード(和) | 走査レーザSQUID顕微鏡 / 作りこみ欠陥 / 磁場強度像 / 磁場位相像 / 断線箇所絞り込み |
キーワード(英) | Scanning Laser-SQUID microscope / built-in defect / intensity image / phase image / Open-circuit localization |
資料番号 | CPM2004-158,ICD2004-203 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2005/1/20(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 作りこみ欠陥を有する完成チップの走査レーザSQUID顕微鏡による観測(LSIシステムの実装・モジュール化・インタフェース技術, テスト実装, 一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Observation of completed LSI after building-in defect using laser-SQUID microscopy |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 走査レーザSQUID顕微鏡 / Scanning Laser-SQUID microscope |
キーワード(2)(和/英) | 作りこみ欠陥 / built-in defect |
キーワード(3)(和/英) | 磁場強度像 / intensity image |
キーワード(4)(和/英) | 磁場位相像 / phase image |
キーワード(5)(和/英) | 断線箇所絞り込み / Open-circuit localization |
第 1 著者 氏名(和/英) | 酒井 哲哉 / T. Sakai |
第 1 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス株式会社 テスト評価技術開発事業部 Test Analysis Technology Development Division, NEC Electronics Corporation |
第 2 著者 氏名(和/英) | 二川 清 / K. Nikawa |
第 2 著者 所属(和/英) | NECエレクトロニクス株式会社 テスト評価技術開発事業部 Test Analysis Technology Development Division, NEC Electronics Corporation |
発表年月日 | 2005-01-27 |
資料番号 | CPM2004-158,ICD2004-203 |
巻番号(vol) | vol.104 |
号番号(no) | 626 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |