| 講演名 | 2004/11/4 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCu-Al-O薄膜の作製と熱処理効果(薄膜プロセス・材料,一般) 小方 淳也, 伊藤 雄二, 坪井 望, 小林 敏志, 清水 英彦, 加藤 景三, 金子 双男, |
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| 抄録(和) | CuとAlの2組の対向ターゲット対を有する対向ターゲット式反応性スパッタ装置を用いて,Ar希釈の酸素ガス濃度20%および5%においてCuとAlを単分子層オーダで交互に堆積させて基板温度700℃で種々の組成の薄膜を作製した。[Cu]/[Al]モル比および酸素モル濃度によらずCuAl_2O_4とCuOの多結晶相を含む酸素過剰な高抵抗薄膜が得られた。この薄膜に窒素雰囲気中1050℃で熱処理を施したところ,酸素モル濃度が約0.5に減少すると共にCuA1_2O_4相が消失し,CuAlO_2とわずかなCu_2Oの多結晶相が出現したp型導電膜が得られた。組成がCuAlO_2にほぼ等しい薄膜の透過率の立ち上がりがCuAlO_2の禁制帯幅に対応していることは,CuAlO_2が支配的であることを示している。 |
| 抄録(英) | Cu-Al-O films were deposited at 700℃ by using dc-reactive sputtering with Cu and Al elemental targets under Ar-diluted oxygen gas (O_2: 5～20%) atmosphere, and then annealed at 1050℃ in nitrogen atmosphere. Regardless of the gas ratio of O_2 to Ar, the molar fraction of oxygen in as-deposited films was around 0.6. All as-deposited films exhibited XRD lines of CuAl_2O_4 and CuO. The annealing process caused the molar fraction of oxygen to approach 0.5, resulting in disappearance of the CuAl_2O_4 XRD lines. The annealed films with [Cu]/[Al]～1, exhibiting intense CuAlO_2 XRD lines and the weak CuO XRD line, had the absorption edge corresponding to the energy gap of CuAlO_2 and p-type conductivity. This indicates that the annealed films with [Cu]/[Al]-1 are dominated by CuAlO_2 phase. |
| キーワード(和) | CuAlO_2薄膜 / デラフォサイト構造 / 反応性スパッタ / 透明導電性酸化物 |
| キーワード(英) | CuAlO_2 films / delafossite structure / reactive spattering / transparent conducting oxide |
| 資料番号 | CPM2004-132 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2004/11/4(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCu-Al-O薄膜の作製と熱処理効果(薄膜プロセス・材料,一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation and annealing effect of Cu-Al-O films by the facing targets spattering method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | CuAlO_2薄膜 / CuAlO_2 films |
| キーワード(2)（和/英） | デラフォサイト構造 / delafossite structure |
| キーワード(3)（和/英） | 反応性スパッタ / reactive spattering |
| キーワード(4)（和/英） | 透明導電性酸化物 / transparent conducting oxide |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小方 淳也 / Junya OGATA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 新潟大学大学院自然科学研究科 Graduate School of Science and Technology, Niigata University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 伊藤 雄二 / Yuji ITOH |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 新潟大学大学院自然科学研究科 Graduate School of Science and Technology, Niigata University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 坪井 望 / Nozomu TUBOI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 新潟大学超域研究機構:新潟大学工学部 Center for Transdisciplinaty Research, Niigata University:Faculty of Engineering, Niigata University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 小林 敏志 / Satoshi KOBAYASHI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 新潟大学超域研究機構:新潟大学工学部 Center for Transdisciplinaty Research, Niigata University:Faculty of Engineering, Niigata University |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 加藤 景三 / Keizou KATOH |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 新潟大学大学院自然科学研究科:新潟大学超域研究機構 Center for Transdisciplinaty Research, Niigata University:Graduate School of Science and Technology, Niigata University |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 金子 双男 / Futao KANEKO |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 新潟大学超域研究機構:新潟大学工学部 Center for Transdisciplinaty Research, Niigata University:Faculty of Engineering, Niigata University |
| 発表年月日 | 2004/11/4 |
| 資料番号 | CPM2004-132 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 425 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |